[发明专利]一种用于航空材料的等离子体气相沉积装置

说明书

本发明涉及等离子体气相沉积技术领域，具体为一种用于航空材料的等离子体气相沉积装置，包括：反应仓，反应仓的内部设置有活塞杆；活塞杆，活塞杆的表面设置有连接杆，连接杆的端部安装有收集架，收集架的顶部安装有第一立杆，第一立杆的顶部设置有立杆，立杆的顶部设置有伸缩杆，伸缩杆的端部安装有清理板及气缸，设于反应仓的底部；有益效果为：本发明提出的气缸带动活塞杆上升，活塞杆上升后通过连接杆带动收集架上升，清理板表面的第一刮除杆接触到反应仓的内壁，将反应仓内部的残留物刮除，且第一刮除杆的端部设置有第二刮除杆，加大刮除的面积，且第一刮除杆的底部设置有刮除板，刮除板对反应仓内部的残留物进一步的刮除。

技术领域

本发明涉及等离子体气相沉积技术领域，具体为一种用于航空材料的等离子体气相沉积装置。

背景技术

航空材料是制造飞机、航空发动机及其附件、仪表及随机设备等所用材料的总称，通常包括金属材料(结构钢、不锈钢、高温合金、有色金属及合金)、有机高分子材料(橡胶、塑料、透明材料、涂料)和复合材料；

化学或物理气相沉积装置是实现薄膜沉积技术的常用设备。物理气相沉积往往通过蒸发、离子束、溅射的方式，存在着效率不高，且膜层沉积不均匀的缺点，成本也高。化学气相沉积装置可以有效解决上述问题；

成长过程中的杂质可能在样品镀膜过程中污染样品；杂质容易附着在腔室内，进而在反复使用时，使得腔室内的附着物越来越多，造成基板上出现杂质，影响膜层沉积，导致成膜不均匀。

发明内容

本发明的目的在于提供一种用于航空材料的等离子体气相沉积装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种用于航空材料的等离子体气相沉积装置，包括：

反应仓，反应仓的内部设置有活塞杆；

活塞杆，活塞杆的表面设置有连接杆，连接杆的端部安装有收集架，收集架的顶部安装有第一立杆，第一立杆的顶部设置有立杆，立杆的顶部设置有伸缩杆，伸缩杆的端部安装有清理板及气缸，设于反应仓的底部。

优选的，所述反应仓的顶部安装有连接管，连接管的内部为空，连接管的内部与反应仓的内部相通，气缸的顶部与活塞杆相连，活塞杆在气缸的驱动下进行上下的的升降。

优选的，所述连接杆具有四组，收集架呈环形，收集架的顶部开设有收集槽，收集架的顶部安装有第二立板，第二立板紧靠着反应仓的内壁，第二立板的高度与第一立杆的高度一致。

优选的，所述立杆具有多组，均匀的安装在第一立杆的顶部，立杆的顶部开设有插接孔，伸缩杆插接在插接孔中，且伸缩杆可在插接孔中滑动，伸缩杆的端部安装有限位板。

优选的，所述伸缩杆的外部设置有弹簧，弹簧的一端连接着限位板的表面，另一端连接着立杆的表面，立杆的表面安装有支撑杆，支撑杆的端部安装有支撑环，支撑环套设在伸缩杆的外部，伸缩杆可在支撑环内部移动。

优选的，所述清理板的表面安装有第一刮除杆，第一刮除杆具有多组，第一刮除杆均匀的排列在清理板的表面，第一刮除杆的端部安装有延伸板，延伸板具有两组，位于第一刮除杆的两端，延伸板的表面安装有第二刮除杆。

优选的，所述清理板的表面安装有刮除板，刮除板位于第一刮除杆的底部，刮除板的表面开设有通孔，通孔具有多组，多组通孔均匀的排列在刮除板的表面。

优选的，所述刮除板的底部安装有第一毛刷，第一毛刷具有多组，多组第一毛刷具有的排列在清理板的表面，第一毛刷之间设置有距离。

优选的，所述第一毛刷的底部设置有第二毛刷，第二毛刷具有多组，多组第二毛刷均匀的排列在清理板的表面，每组第二毛刷位于第一毛刷之间空隙的位置。

优选的，所述活塞杆的顶部设置有样品台，样品放置在样品台的顶部，样品台跟随着活塞杆在反应仓的内部升降。