[发明专利]抛光机

权利要求书

1.一种抛光机(100)，其特征在于，包括底座(1)、抛盘(2)以及泡沫发生器(3)，

底座(1)能够旋转，底座(1)具有收容凹部(11)，收容凹部(11)用于收容待抛材料(200)；

抛盘(2)能够旋转，抛盘(2)具有周壁(21)、底壁(22)以及多个抛光颗粒(23)，周壁(21)和底壁(22)围成腔体(24)，底壁(22)具有沿上下方向(D)贯通的多个通孔(221)，多个抛光颗粒(23)固定在底壁(22)的平的下表面(222)上并与多个通孔(221)的开口(221a)间隔开，多个抛光颗粒(23)用于在抛盘(2)旋转过程中对待抛材料(200)进行表面抛光；

泡沫发生器(3)用于使抛光液形成泡沫(300)且形成的泡沫(300)经由多个通孔(221)的开口(221a)流出到对待抛材料(200)的表面上。

2.根据权利要求1所述的抛光机(100)，其特征在于，

径向相邻的抛光颗粒(23)之间分布有通孔(221)，周向相邻的抛光颗粒(23)之间分布有通孔(221)。

3.根据权利要求1所述的抛光机(100)，其特征在于，

各抛光颗粒(23)在上下方向(D)的高度为4μm-6μm；

各通孔(221)的直径为3μm-4μm。

4.根据权利要求1所述的抛光机(100)，其特征在于，

底座(1)的旋转方向和抛盘(2)的旋转方向相反。

5.根据权利要求4所述的抛光机(100)，其特征在于，

底座(1)的旋转速度小于抛盘(2)的旋转速度。

6.根据权利要求1所述的抛光机(100)，其特征在于，

底座(1)的材料为能够弹性伸缩的橡胶材料；

收容凹部(11)的尺寸设置成收容凹部(11)的周面夹紧待抛材料(200)并收容凹部(11)的周面与待抛材料(200)的周面形成密封。

7.根据权利要求1所述的抛光机(100)，其特征在于，

抛光液含有氧化剂；

待抛材料(200)为晶片。

8.根据权利要求1所述的抛光机(100)，其特征在于，

抛光机(100)还包括磁吸机构(4)，磁吸机构(4)将多个抛光颗粒(23)通过磁性吸引而固定在底壁(22)的下表面(222)上。

9.根据权利要求1所述的抛光机(100)，其特征在于，

抛光机(100)还包括保护罩(5)，保护罩(5)在将底座(1)、抛盘(2)以及泡沫发生器(3)封闭在其内，保护罩(5)的内周面与底座(1)间隔开，保护罩(5)的底部、保护罩(5)的内周面和底座(1)之间形成收容空间(S)，收容空间(S)用于收容抛光过程中从待抛材料(200)的表面上抛出的材料屑和破碎的泡沫(300)。

10.根据权利要求1所述的抛光机(100)，其特征在于，

保护罩(5)为玻璃罩。