[发明专利]抛光机

说明书

提供一种抛光机，其包括底座、抛盘以及泡沫发生器，底座能够旋转，底座具有收容凹部，收容凹部用于收容待抛材料；抛盘能够旋转，抛盘具有周壁、底壁以及多个抛光颗粒，周壁和底壁围成腔体，底壁具有沿上下方向贯通的多个通孔，多个抛光颗粒固定在底壁的平的下表面上并与多个通孔的开口间隔开，多个抛光颗粒用于在抛盘旋转过程中对待抛材料进行表面抛光；泡沫发生器用于使抛光液形成泡沫且形成的泡沫经由多个通孔的开口流出到对待抛材料的表面上。由于形成的泡沫经由多个通孔的开口流出到对待抛材料的表面上，这样使得泡沫能够更为均匀地分布到待抛光的表面的各个部位而不会受到抛光颗粒在径向上的任何阻挡，提高了抛光液所形成的泡沫的抛光作用。

技术领域

本公开涉及材料表面处理领域，更具体地涉及一种抛光机。

背景技术

随着电子科技的发展，砷化镓已经成为半导体行业中一种不可或缺的材料，其禁带宽度为1.4电子伏，因其具有良好的电性能优势，常被用来制作衬底、红外探测器等电子器件。在砷化镓衬底的制作工艺中，抛光是一道承前启后的重要工序，此工序直接决定了晶片衬底表面精度的大小，抛光质量的好坏直接影响晶片的成品率。

需要抛光时，需要抛光的晶片正面接触抛光垫，抛光液源源不断的喷向陶瓷盘底部收容的晶片和抛光垫之间，由于旋转的抛光垫的旋转，晶片与抛光垫之间的间隙非常小，抛光液进入到间隙的中央部位变得困难，这不利于抛光液的与晶片表面发生反应的抛光作用，这种方式可能导致单面抛光的晶片的背面吸附抛光液，这种情况需要重复上一道工序进行修复，增加了一定的成本。此外，这种方式导致抛光液的用量大。此外，喷射的抛光液四处漫流，不利用操作环境保护。

发明内容

鉴于背景技术中存在的问题，本公开的目的在于提供一种抛光机，其至少能提高抛光液在待抛材料表面上的均匀分布。

由此，在一些实施例中，一种抛光机包括底座、抛盘以及泡沫发生器，底座能够旋转，底座具有收容凹部，收容凹部用于收容待抛材料；抛盘能够旋转，抛盘具有周壁、底壁以及多个抛光颗粒，周壁和底壁围成腔体，底壁具有沿上下方向贯通的多个通孔，多个抛光颗粒固定在底壁的平的下表面上并与多个通孔的开口间隔开，多个抛光颗粒用于在抛盘旋转过程中对待抛材料进行表面抛光；泡沫发生器用于使抛光液形成泡沫且形成的泡沫经由多个通孔的开口流出到对待抛材料的表面上。

在一些实施例中，径向相邻的抛光颗粒之间分布有通孔，周向相邻的抛光颗粒之间分布有通孔。

在一些实施例中，各抛光颗粒在上下方向的高度为4μm-6μm；各通孔的直径为3μm-4μm。

在一些实施例中，底座的旋转方向和抛盘的旋转方向相反。

在一些实施例中，底座的旋转速度小于抛盘的旋转速度。

在一些实施例中，底座的材料为能够弹性伸缩的橡胶材料；收容凹部的尺寸设置成收容凹部的周面夹紧待抛材料并收容凹部的周面与待抛材料200 的周面形成密封。

在一些实施例中，抛光液含有氧化剂；待抛材料为晶片。

在一些实施例中，抛光机还包括磁吸机构，磁吸机构将多个抛光颗粒通过磁性吸引而固定在底壁的下表面上。

在一些实施例中，抛光机还包括保护罩，保护罩在将底座、抛盘以及泡沫发生器封闭在其内，保护罩的内周面与底座间隔开，保护罩的底部、保护罩的内周面和底座之间形成收容空间，收容空间用于收容抛光过程中从待抛材料的表面上抛出的材料屑和破碎的泡沫。

在一些实施例中，保护罩为玻璃罩。

本公开的有益效果如下：与背景技术中从旋转的抛盘和底座之间的外部喷射抛光液、抛光液在径向上受到阻挡进入抛盘和底座之间的中央较为困难相比，由于形成的泡沫经由多个通孔的开口流出到对待抛材料的表面上，这样使得泡沫能够更为均匀地分布到待抛光的表面的各个部位而不会受到抛光颗粒在径向上的任何阻挡，提高了抛光液所形成的泡沫的抛光作用。