[发明专利]一种提高介质/Cu/Ag/介质多层透明导电膜可见光区光电性能和透过率均匀性的方法在审
| 申请号： | 202210751875.X | 申请日： | 2022-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN115101254A | 公开（公告）日： | 2022-09-23 |
| 发明（设计）人： | 方应翠;年宇杰;王帅 | 申请（专利权）人： | 合肥工业大学智能制造技术研究院;合肥工业大学 |
| 主分类号： | H01B13/00 | 分类号： | H01B13/00;H01B5/14 |
| 代理公司： | 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 | 代理人： | 卢敏 |
| 地址： | 230051 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 提高 介质 cu ag 多层 透明 导电 可见光 光电 性能 透过 均匀 方法 | ||
1.一种提高介质/Cu/Ag/介质多层透明导电膜可见光区光电性能和透过率均匀性的方法，其特征在于：在基底上依次沉积底层介质薄膜和Cu薄膜后，先在空气中放置一段时间，以改变Cu的化学状态，然后再依次沉积Ag薄膜和顶层介质薄膜，从而同时提高了多层透明导电膜可见光区光电性能和透过率均匀性。
2.根据权利要求1所述的一种提高介质/Cu/Ag/介质多层透明导电膜可见光区光电性能和透过率均匀性的方法，其特征在于：所述基底为玻璃基底或柔性基底。
3.根据权利要求1所述的一种提高介质/Cu/Ag/介质多层透明导电膜可见光区光电性能和透过率均匀性的方法，其特征在于：制备介质/Cu/Ag/介质多层透明导电膜的方法为真空镀膜或化学制膜。
4.根据权利要求1所述的一种提高介质/Cu/Ag/介质多层透明导电膜可见光区光电性能和透过率均匀性的方法，其特征在于：所述底层介质薄膜和所述顶层介质薄膜厚度为15～50nm。
5.根据权利要求1所述的一种提高介质/Cu/Ag/介质多层透明导电膜可见光区光电性能和透过率均匀性的方法，其特征在于：所述Cu薄膜的厚度为0.5～2nm，所述Ag薄膜的厚度为3～10nm。
6.根据权利要求1所述的一种提高介质/Cu/Ag/介质多层透明导电膜可见光区光电性能和透过率均匀性的方法，其特征在于：在空气中放置的时间不少于1天。
7.根据权利要求1所述的一种提高介质/Cu/Ag/介质多层透明导电膜可见光区光电性能和透过率均匀性的方法，其特征在于：所述底层介质薄膜和所述顶层介质薄膜为TiO2薄膜或CeO2薄膜。
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