[发明专利]一种提高介质/Cu/Ag/介质多层透明导电膜可见光区光电性能和透过率均匀性的方法

说明书

本发明公开了一种提高介质/Cu/Ag/介质多层透明导电膜可见光区光电性能和透过率均匀性的方法，是在基底上依次沉积底层介质薄膜和Cu薄膜后，先在空气中放置一段时间，然后再依次沉积Ag薄膜和顶层介质薄膜。在空气中放置可以改变Cu的化学状态，进而增强了对Ag薄膜岛状生长的抑制效果，从而同时提高了多层透明导电膜可见光区光电性能和透过率均匀性。

技术领域

本发明属于光电显示器件领域，具体涉及一种提高介质/Cu/Ag/介质多层透明导电膜可见光区光电性能和透过率均匀性的方法。

背景技术

透明导电薄膜具有良好的导电性和透光性，是许多光电显示器件的重要组成部分，已被广泛应用于平板显示、太阳电池、柔性透明电极等领域。另外，可见光区透过率均匀性使透明导电膜外观呈现无色透明，进一步拓展了透明导电膜在建筑窗户领域的应用。传统透明导电介质(TCO)薄膜可见光区透过率均匀性较差，所用材料稀少、脆性大，制备条件苛刻，已不能满足当前光电显示器件发展对柔性电子器件的需求。

近年来，介质/金属/介质多层复合薄膜受到人们的广泛关注，它所用材料丰富、光电性能优异、制备方法简单，已成为开发新一代透明导电薄膜的非常有竞争力的材料。目前，由于Ag薄膜的初始岛状生长方式和熟化效应，导致Ag薄膜的最小导电厚度较大，极大限制了介质/Ag/介质多层透明导电膜可见光区光电性能和透过率均匀性的提升。为了进一步提高介质/Ag/介质多层透明导电膜可见光区光电性能和透过率均匀性，广泛使用了介质/Cu/Ag/介质多层透明导电膜，但介质/Cu/Ag/介质多层透明导电膜可见光区光电性能和透过率均匀性仍需要进一步提升。另外，随着光电显示器件向柔性电子器件的发展，柔性多层透明导电膜的开发也刻不容缓。

面对现有光电器件的要求，目前具有极高光电性能和机械柔韧性的多层透明导电膜还比较缺乏。因此需要开发一种方法提高多层透明导电膜可见光区光电性能和透过率均匀性。

发明内容

为解决上述现有技术所存在的问题，本发明提供一种提高介质/Cu/Ag/介质多层透明导电膜可见光区光电性能和透过率均匀性的方法，旨在同时提高多层膜可见光区光电性能和透过率均匀性。

为了实现上述目的，本发明所采用的技术方案为：

一种提高介质/Cu/Ag/介质多层透明导电膜可见光区光电性能和透过率均匀性的方法，其特点是：在基底上依次沉积底层介质薄膜和Cu薄膜后，先在空气中放置一段时间，然后再依次沉积Ag薄膜和顶层介质薄膜。在空气中放置可以改变Cu的化学状态，进而增强对Ag薄膜岛状生长的抑制效果，从而同时提高了多层透明导电膜可见光区光电性能和透过率均匀性。

进一步地，所述基底包括但不限于玻璃基底或柔性基底，柔性基底包括但不限于PET。

进一步地，制备介质/Cu/Ag/介质多层透明导电膜的方法包括但不限于真空镀膜或化学制膜。

进一步地，所述介质薄膜可为TiO₂薄膜或CeO₂薄膜等，厚度为15～50nm。

进一步地，在底层介质薄膜上的Cu薄膜的厚度为0.5～2nm，Ag薄膜的厚度为3～10nm。

进一步地，采用真空蒸发镀膜的方法制备Cu薄膜时，真空度高于1.0×10-3Pa，装载蒸发源的钼舟通电电流为130-150A，镀膜时间不小于3s。

进一步地，介质/Cu薄膜在空气中放置时间不少于1天。当放置时间大于3天后，基于该介质/Cu薄膜所制备的介质/Cu/Ag/介质介质多层透明导电膜光电性能基本稳定。

本发明的有益效果体现在：

1、相比传统介质/Cu/Ag/介质多层透明导电膜，本发明将介质/Cu薄膜在空气中放置一段时间，提高了多层透明导电膜可见光区光电性能和透过率均匀性。

2、本发明的方法简单，易于实现。