[发明专利]一种遮蔽板及化学气相沉积装置

权利要求书

1.一种遮蔽板，应用于化学气相沉积装置，其特征在于，包括：

第一遮蔽段、第二遮蔽段及过渡段，所述第一遮蔽段和所述第二遮蔽段垂直设置，以及所述过渡段分别与所述第一遮蔽段和所述第二遮蔽段的端部连接；

其中，所述第一遮蔽段、所述第二遮蔽段和所述过渡段合围成一开口，所述第一遮蔽段包括远离所述遮蔽板的中心的第一侧边，所述第二遮蔽段包括远离所述遮蔽板的中心的第二侧边，所述过渡段包括连接所述第一侧边和所述第二侧边的第三侧边，所述第三侧边与所述第一侧边和所述第二侧边呈夹角设置，所述夹角不为0度或者180度；所述开口的边分别与所述第一侧边和所述第二侧边平行，在所述开口的角上设置有圆孔，所述圆孔的圆心与所述开口的顶点重合。

2.根据权利要求1所述的遮蔽板，其特征在于，所述第三侧边为直线，所述第三侧边与所述第一侧边朝向所述遮蔽板的中心的第一夹角大于或等于所述第三侧边与所述第二侧边朝向所述遮蔽板的中心的第二夹角。

3.根据权利要求1所述的遮蔽板，其特征在于，所述第三侧边为弧形，所述弧形的圆心与所述遮蔽板的几何中心重合。

4.一种化学气相沉积装置，其特征在于，包括如权利要求1至3任一项所述的遮蔽板，所述化学气相沉积装置还包括：

主体部，包括腔室；

下电极，设置于所述腔室内，所述下电极用于承载待成膜的目标基板；

其中，所述遮蔽板设置于所述下电极上，所述开口用于容纳所述目标基板，所述遮蔽板与所述腔室的内壁设置有间隙。

5.根据权利要求4所述的化学气相沉积装置，其特征在于，在垂直于所述下电极的上表面的方向上，所述遮蔽板的厚度小于或等于所述目标基板的厚度。

6.根据权利要求4所述的化学气相沉积装置，其特征在于，在所述下电极的俯视图方向上，所述下电极的外轮廓位于所述遮蔽板的内侧。

7.根据权利要求4所述的气相沉积装置，其特征在于，所述化学气相沉积装置还包括：

进气口，设置于所述腔室的上表面；

出气口，设置于所述腔室的下表面；

其中，由所述进气口进入的气体经所述遮蔽板与所述腔室的间隙流向所述出气口。

8.根据权利要求7所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述化学气相沉积装置还包括设置于所述进气口靠近所述下电极一侧的挡板，所述挡板与所述进气口分离且相对设置。

9.根据权利要求8所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述化学气相沉积装置还包括设置于所述挡板靠近所述下电极一侧的扩散板，所述扩散板上设置有用于气体通过的小孔。