[发明专利]一种前后双平台曝光机在审
申请号: | 202210777464.8 | 申请日: | 2022-07-04 |
公开(公告)号: | CN115097699A | 公开(公告)日: | 2022-09-23 |
发明(设计)人: | 蔡志国;吴德和;普丽宏 | 申请(专利权)人: | 深圳凯世光研股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 | 代理人: | 刘洋;刘国童 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区航城街*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 前后 平台 曝光 | ||
本发明涉及一种前后双平台曝光机,解决现有技术的工件曝光设备曝光效率低的问题。包括有底座,设置在底座上的曝光台,以及曝光装置,曝光时,第一供料机构从前侧进行上料,第一供料机构沿曝光台滑动将工件送到曝光装置下方进行曝光,同时第二供料机构从后侧进行上料,第二供料机构上料完毕,第一供料机构上的工件曝光完毕,然后第一供料机构返回将工件送出至第一供料机构上料的位置,然后第一供料机构滑动将工件送到曝光装置下方进行曝光,此时第一供料机构进行下料后并进行上料,第二供料机构上的工件曝光完毕,然后第二供料机构返回将工件送出至第二供料机构上料的位置,如此反复,从而前后双平台上下料,前后双台面交替作业,生产效率高。
技术领域
本发明涉及光学设备领域,尤其涉及一种前后双平台曝光机。
背景技术
现有的工件曝光时,工件只能以单个台面方式进行上下料及曝光,生产效率低。
发明内容
本发明的目的在于解决现有技术的工件曝光设备曝光效率低的问题。
为解决本发明所提出的技术问题采用的技术方案为:本发明的前后双平台曝光机包括有底座,设置在底座上的曝光台,以及用于工件曝光的曝光装置,所述的底座上横跨曝光台中部上方设有曝光龙门支架,所述的曝光装置设置在曝光龙门支架上,所述的曝光台的前后两侧分别设有第一供料机构和第二供料机构,第一供料机构和第二供料机构分别沿曝光台前后滑动设于底座上,所述的底座上分别设有驱动第一供料机构和第二供料机构分别沿曝光台前后滑动的第一供料机构驱动机构和第二供料机构驱动机构;所述的曝光装置前后两侧的底座上分别设有第一工件位置标定装置和第二工件位置标定装置,第一工件位置标定装置和第二工件位置标定装置均包括有横跨曝光台的标定龙门支架,以及滑动设于标定龙门支架上的标定相机,所述的标定龙门支架上设有驱动标定相机沿标定龙门支架滑动的相机驱动机构。
对本发明作进一步限定的技术方案包括:
所述的第一供料机构和第二供料机构均包括有前后滑动设于底座上的供料台,供料台上沿左右方向设有用于工料定位的左工料定位槽和右工料定位槽,所述的标定龙门支架上的左右两侧对应左工料定位槽和右工料定位槽分别设有一个标定相机。
所述左工料定位槽和右工料定位槽内均设有用于将工料吸紧定位的定位吸头。
所述的底座上沿前后方向分别设有第一滑轨和第二滑轨,所述的第一供料机构和第二供料机构滑动设于第一滑轨和第二滑轨上,所述的第一供料机构驱动机构和第二供料机构驱动机构分别为第一拖链驱动机构和第二拖链驱动机构。
所述的标定龙门支架侧面设有第三滑轨,所述的标定相机滑动设于第三滑轨上,所述的相机驱动机构为第三拖链驱动机构。
通过上述技术方案,本发明的有益效果为:本发明的前后双平台曝光机曝光时,第一供料机构从前侧进行上料,然后第一供料机构驱动机驱动第一供料机构沿曝光台滑动将工件送到曝光装置下方进行曝光,同时第二供料机构从后侧进行上料,第二供料机构上料完毕,第一供料机构上的工件曝光完毕,然后第一供料机构驱动机驱动第一供料机构沿曝光台滑动返回将工件送出至第一供料机构上料的位置,然后第二供料机构驱动机驱动第一供料机构沿曝光台滑动将工件送到曝光装置下方进行曝光,此时第一供料机构进行下料后并进行上料,第二供料机构上的工件曝光完毕,然后第二供料机构驱动机驱动第二供料机构沿曝光台滑动返回将工件送出至第二供料机构上料的位置,如此反复,从而前后双平台上下料,前后双台面交替作业,生产效率高;同时能够大尺寸化生产,降低设备占用空间。
附图说明
图1为本发明一种前后双平台曝光机的立体结构示意图。
图2为本发明一种前后双平台曝光机的立体结构示意图。
图3为本发明一种前后双平台曝光机的俯视结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的结构做进一步说明。
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