[发明专利]半导体装置及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202210801790.8 申请日: 2022-07-07
公开(公告)号: CN116266610A 公开(公告)日: 2023-06-20
发明(设计)人: 马场祥太郎;雁木比吕;加藤浩朗;下村纱矢;佐藤慎吾 申请(专利权)人: 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/739;H01L21/336;H01L21/331
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 牛玉婷
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 半导体 装置 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种半导体装置,其中,具备:

第1电极;

半导体部件,所述半导体部件包含第1导电型的第1半导体区域、第2导电型的第2半导体区域和所述第1导电型的第3半导体区域,

所述第1半导体区域处于所述第1电极与所述第3半导体区域之间,所述第1半导体区域包含第1部分区域、第2部分区域及第3部分区域,

所述第2半导体区域处于所述第1半导体区域与所述第3半导体区域之间,

所述第3半导体区域包含第1半导体部分及第2半导体部分,从所述第1半导体部分朝向所述第2半导体部分的第2方向与从所述第1电极朝向所述第3半导体区域的第1方向交叉,

所述第2半导体区域包含第3半导体部分及第4半导体部分,从所述第3半导体部分朝向所述第4半导体部分的方向沿着所述第2方向,

所述第3半导体部分在所述第1方向上处于所述第1部分区域与所述第1半导体部分之间,

所述第4半导体部分在所述第1方向上处于所述第2部分区域与所述第2半导体部分之间,

所述第3部分区域在所述第2方向上的位置处于所述第1部分区域在所述第2方向上的位置与所述第2部分区域在所述第2方向上的位置之间;

第2电极,与所述第3半导体区域电连接;

第3电极,包含第1电极部分,所述第1电极部分在所述第2方向上处于所述第1半导体部分与所述第2半导体部分之间、及所述第3半导体部分与所述第4半导体部分之间;

第1导电部件,包含第1导电区域、第2导电区域及第3导电区域,所述第1导电区域在所述第2方向上处于所述第1部分区域与所述第2部分区域之间,所述第1导电区域在所述第1方向上的位置处于所述第3部分区域在所述第1方向上的位置与所述第1电极部分在所述第1方向上的位置之间,所述第2导电区域在与包含所述第1方向及所述第2方向在内的平面交叉的第3方向上处于所述第1导电区域与所述第3导电区域之间;

连接部件,与所述第1导电部件电连接,从所述第3导电区域朝向所述连接部件的方向沿着所述第1方向;

第1部件,在所述第3方向上设置于所述第1电极部分与所述连接部件之间,所述第2导电区域在所述第1方向上的位置处于所述第3部分区域在所述第1方向上的位置与所述第1部件在所述第1方向上的位置之间,所述第1部件包含与所述第2导电区域所包含的元素不同的元素;以及

绝缘部件,设置于所述半导体部件与所述第3电极之间、所述半导体部件与所述第1导电部件之间、所述第1导电部件与所述第3电极之间、及所述第1导电部件与所述第1部件之间。

2.如权利要求1所述的半导体装置,其中,

所述第2导电区域包含第1元素,

所述第1部件包含所述第1元素及第2元素,

所述第1元素包含第3元素及第4元素中的一方,

所述第2元素包含所述第3元素及所述第4元素中的另一方,

所述第3元素包含从由磷、砷及锑构成的组中选择出的至少1个,

所述第4元素包含从由硼、铝及镓构成的组中选择出的至少1个。

3.如权利要求2所述的半导体装置,其中,

所述第2导电区域及所述第1部件包含硅。

4.如权利要求1所述的半导体装置,其中,

所述第3电极还包含第2电极部分,

所述第2电极部分在所述第2方向上处于所述第1电极部分与所述第2半导体部分之间、及所述第1电极部分与所述第4半导体部分之间,

所述绝缘部件的一部分处于所述第1电极部分与所述第2电极部分之间。

5.如权利要求4所述的半导体装置,其中,

还具有第2部件,

所述第2部件在所述第3方向上设置于所述第2电极部分与所述连接部件之间,

所述第2部件包含与所述第2导电区域所包含的所述元素不同的元素,

所述绝缘部件的一部分设置于所述第2导电区域与所述第2部件之间。

6.如权利要求4所述的半导体装置,其中,

所述第1导电区域在第2方向上的位置处于所述第1电极部分在所述第2方向上的位置与所述第2电极部分在所述第2方向上的位置之间。

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