[发明专利]显示装置和制造显示装置的方法在审
申请号: | 202210820070.6 | 申请日: | 2022-07-12 |
公开(公告)号: | CN115734654A | 公开(公告)日: | 2023-03-03 |
发明(设计)人: | 赵晟原;吕伦钟;丁有光;朱在焕 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H10K59/121 | 分类号: | H10K59/121;H01L29/49;H01L29/51;H01L27/15 |
代理公司: | 北京钲霖知识产权代理有限公司 11722 | 代理人: | 李英艳;冯志云 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 制造 方法 | ||
公开了一种显示装置和一种制造显示装置的方法。所述显示装置包括基底、半导体层、第一导电层和第一栅极绝缘层。所述半导体层设置在所述基底上并且包括第一区域和第二区域。所述第一导电层设置在所述半导体层上,并且包括与所述第一区域重叠第一栅极图案和与所述第二区域重叠的第二栅极图案。所述第一栅极绝缘层设置在所述半导体层与所述第一导电层之间,并且包括与所述第一区域和所述第二区域重叠的第一绝缘层、与所述第一区域和所述第二区域重叠的第二绝缘层、以及不与所述第一区域重叠而与所述第二区域重叠的第三绝缘层。所述第二绝缘层设置在所述第一绝缘层与所述第三绝缘层之间,并且具有比所述第三绝缘层的介电常数大的介电常数。
本申请要求于2021年8月27日在韩国知识产权局提交的第10-2021-0113975号韩国专利申请的优先权,该韩国专利申请的公开通过引用全部包含于此。
技术领域
本公开涉及一种显示装置和一种制造显示装置的方法。
背景技术
随着多媒体技术的发展,显示装置变得越来越重要。据此,包括诸如有机发光显示(OLED)装置和液晶显示(LCD)装置的自发光显示装置的各种类型的显示装置正在被使用。
在显示装置之中,包含自发光元件的显示装置包括作为发光元件的发光二极管和连接到发光二极管的多个薄膜晶体管。薄膜晶体管可以包括多晶硅膜的沟道区以及源极区和漏极区。当薄膜晶体管在工作电压范围内导通时,电流流过薄膜晶体管的沟道区。当薄膜晶体管在非工作电压范围内截止时,电流不流过薄膜晶体管的沟道区。
发明内容
本公开的各方面提供了一种可以确保薄膜晶体管的稳定性的显示装置。
本公开的各方面也提供了一种制造可以确保薄膜晶体管的稳定性的显示装置的方法。
应当注意的是,本公开的各方面不限于上述方面,并且本公开的其他方面对于本领域的技术人员将从以下描述中显而易见。
根据本公开的实施例,一种显示装置可以包括:基底;半导体层,设置在所述基底上并且包括第一区域和第二区域;第一导电层,设置在所述半导体层上,并且包括与所述第一区域重叠的第一栅极图案和与所述第二区域重叠的第二栅极图案;以及第一栅极绝缘层,设置在所述半导体层与所述第一导电层之间,并且包括与所述第一区域和所述第二区域重叠的第一绝缘层、与所述第一区域和所述第二区域重叠的第二绝缘层、以及不与所述第一区域重叠而与所述第二区域重叠的第三绝缘层,其中,所述第二绝缘层设置在所述第一绝缘层与所述第三绝缘层之间,并且具有比所述第三绝缘层的介电常数大的介电常数。
所述第二绝缘层可以具有比所述第一绝缘层的介电常数更大的介电常数。
所述第一绝缘层可以包括氧化硅并且具有至的厚度,并且其中,所述第二绝缘层可以具有至的厚度。
所述第一栅极绝缘层的与所述第一区域重叠的一部分的等效氧化物厚度可以小于所述第一栅极绝缘层的与所述第二区域重叠的一部分的等效氧化物厚度。
所述第一栅极绝缘层的与所述第一区域重叠的所述一部分的所述等效氧化物厚度可以在至范围内,并且所述第一栅极绝缘层的与所述第二区域重叠的所述一部分的所述等效氧化物厚度可以在至的范围内。
所述第一栅极绝缘层的与所述第二区域重叠的一部分的所述等效氧化物厚度可以比所述第一栅极绝缘层的与所述第一区域重叠的一部分的所述等效氧化物厚度大至
所述显示装置可以进一步包括设置在所述基底上的发光元件,其中所述第二区域和所述第二栅极图案形成被配置为接收驱动电压的驱动晶体管以向所述发光元件供应驱动电流,并且其中所述第一区域和所述第一栅极图案形成被配置为向所述驱动晶体管发送数据信号的开关晶体管。
所述第二绝缘层的材料的原子间键能可以大于所述第三绝缘层的材料的原子间键能。
所述第二绝缘层的所述介电常数可以大于或等于8并且小于或等于30。
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