[发明专利]监控系统

说明书

本申请公开一种监控系统，涉及摄像技术领域，所公开的监控系统包括两个发光组件和一个镜头组件，两个发光组件对称性设置在镜头组件的两侧；镜头组件被配置为光轴与水平面构成第一夹角，镜头组件用于响应于两个发光元件的补光光线而生成具有第一景深范围的第一图像；发光组件包括发光元件和透镜，发光元件的中轴线与水平面构成第一夹角，以使得光轴与两个发光组件的中轴线共面，透镜包括入光面、反光面和出光面，反光面中靠近镜头组件的第一反光面的斜率比反光面中除了第一反光面以外的第二反光面的斜率大，以使得补光光线限定为发光元件由入光面射入的光线经由第一反光面和第二反光面反射后由出光面射出所得且光强沿着第一景深范围而增大。

技术领域

本申请属于摄像技术领域，具体涉及一种监控系统。

背景技术

在拍摄过程中，通过补光系统优化光线分布情况，可以达到提升拍摄质量的效果，因此，补光系统的补光效果将直接决定拍摄质量的优劣。

相关技术中，补光系统包括至少两个光源和至少两个透镜，至少两个光源依次间隔设置，透镜与光源一一对应，光源发出的光束经过对应的透镜的作用后射出。相邻的两个光源的光束经过对应的透镜后，光束分布范围分别为第一光能量范围和第二光能量范围，由于两个光源相邻设置，第一光能量范围和第二光能量范围存在重合区域，而且，在透镜的作用下，无论是第一光能量范围，还是第二光能量范围，分别关于对应光源的光轴对称分布，故重合区域较大，目标物容易位于重合区域内，由于重合区域的光能量较多，故照射到目标物的光能量较多，导致出现过曝情况，无法识别目标物的细节信息。

发明内容

本申请实施例的目的是提供一种监控系统，能够解决相关技术中补光系统易补光过曝，导致无法识别目标物的问题。

本申请实施例提供一种监控系统，包括：

两个发光组件和一个镜头组件，所述两个发光组件对称性设置在所述镜头组件的两侧；所述镜头组件被配置为光轴与水平面构成第一夹角，所述镜头组件用于响应于所述两个发光元件的补光光线而生成具有第一景深范围的第一图像；

所述发光组件包括发光元件和透镜，所述发光元件被配置为所述发光元件的中轴线与所述水平面构成所述第一夹角，以使得所述光轴与所述两个发光组件的中轴线共面，所述透镜包括入光面、反光面和出光面，所述反光面中靠近所述镜头组件的第一反光面的斜率比所述反光面中除了所述第一反光面以外的第二反光面的斜率大，以使得所述补光光线限定为所述发光元件由所述入光面射入的光线可经由所述第一反光面和所述第二反光面的反射后由所述出光面射出所得且所述补光光线的光强沿着所述第一景深范围而增大。

在本申请实施例中，由于第一反光面的斜率大于第二反光面的斜率，使得补光光线的光强沿着第一景深范围而增大，第一景深范围为镜头组件所能拍摄清楚的近处的物体至所能拍摄清楚的远处的物体之间的距离范围，而补光光线的光强沿着第一景深范围而增大，说明从距离镜头组件较近的位置至距离镜头组件较远的位置，补光光线越来越强，故距离镜头组件较近的位置的补光光线较弱，距离镜头组件较远的位置的补光光线较强。因此，距离镜头组件的较近的位置的光强减小，距离镜头组件的较远的位置的光强增大，从而在一定程度上避免近处补光过曝的情况，提高目标物的识别度。

附图说明

图1是本申请实施例公开的监控系统的结构示意图；

图2是本申请实施例公开的第一发光元件和第二发光元件的光区分布示意图；

图3是本申请实施例公开的第一透镜的结构示意图；

图4是本申请实施例公开的第一发光元件所发出光线的光强I₁随偏光角度变化的函数图像；

图5是本申请实施例公开的第二发光元件所发出光线的光强I₂随偏光角度变化的函数图像；

图6是本申请实施例公开的监控系统的强光区和弱光区的分布示意图；