[发明专利]光源装置、曝光装置以及物品的制造方法

说明书

本发明涉及光源装置、曝光装置以及物品的制造方法。一种光源装置，具有排列有多个LED的LED模块和通过液冷对所述LED模块进行冷却的冷却器，所述LED模块的发光量可变，在所述发光量为第1发光量的情况下流过大于预定的电流值的电流而发光的LED的数量比在所述发光量为大于所述第1发光量的第2发光量的情况下流过大于所述预定的电流值的电流而发光的LED的数量少。

技术领域

本发明涉及光源装置、曝光装置以及物品的制造方法。

背景技术

曝光装置是在作为半导体设备、液晶显示装置等的制造工序的光刻工序中将原版(中间掩模或者掩模)的图案经由投影光学系统转印到感光性的基板(在表面形成有抗蚀剂层的晶片、玻璃板等)的装置。作为该图案转印用的光源(曝光光源)，例如使用汞灯，但近年来，期待置换为发光二极管(LED：Light Emitting Diode)。LED由于从在控制发光的电路中流过电流至光的输出变得稳定的时间短且无需如汞灯那样始终发光，所以寿命较长。然而，每个LED的亮度较小，所以为了代替汞灯而在光源中使用LED，需要集成多个LED来提高作为曝光光源发出的光的发光量。

为了提高曝光装置的生产率，需要增大曝光光源的发光量，但如果增大在所集成的各LED中流过的电流值来增大发光量，则LED的发热量也变大。另外，根据曝光对象不同，曝光装置还有时在图案转印中无需大光量而减小在LED中流过的电流值来减小发光量。

如果如上所述根据曝光对象而变更在LED中流过的电流值，则在LED中产生的热量变化，所以LED的温度变化。LED具有从LED射出的光的峰值波长根据LED的温度而变动的温度依赖特性。另外，曝光装置有可能由于来自曝光光源的光的波长(曝光光的波长)的变动而曝光性能降低，所以在曝光光源中使用LED的情况下，曝光光的峰值波长的变动也不优选。这是因为，例如，在LED中有可能在15℃左右的温度变化下产生2nm左右的波长变动，对曝光处理造成恶劣影响。

在日本特开2012-59706号公报中，记载了一种用于从LED模块抑制光的峰值波长的变动的方法。具体而言，按照每个LED组从波长特性不同的LED模块选择要使其发光的LED组，并根据所选择的LED组的LED的温度来校正在LED中流过的电流值，从而抑制光的峰值波长的变动。

发明内容

然而，日本特开2012-59706号公报未记载使LED模块的发光量可变，未示出抑制由于发光量的变更而产生的来自LED模块的光的峰值波长的变动的方法。

因此，本发明的目的在于提供一种有利于抑制由于发光量的变更而产生的来自LED模块的光的峰值波长的变动的光源装置。

为了达成上述目的，作为本发明的一个侧面的光源装置，其特征在于，具有排列有多个LED的LED模块和通过液冷对所述LED模块进行冷却的冷却器，所述LED模块的发光量可变，在所述发光量为第1发光量的情况下流过大于预定的电流值的电流而发光的LED的数量比在所述发光量为大于所述第1发光量的第2发光量的情况下流过大于所述预定的电流值的电流而发光的LED的数量少。

根据以下(参考附图)对示例性实施例的描述，本发明的其他特征将变得清楚。

附图说明

图1是示出第1实施方式的光源装置的结构的概略图。

图2是示出第1实施方式中的冷却器的结构的图。

图3是示出变更电流值时的LED的温度分布的图。

图4是示出第1实施方式中的LED的点亮方法的图。

图5是示出第1实施方式中的LED的温度分布的图。

图6是示出第2实施方式中的冷却器的结构的图。

图7是示出第3实施方式中的LED模块的结构的图。