[发明专利]微型反射镜阵列加工方法及系统

权利要求书

1.一种微型反射镜阵列加工方法，其特征在于，包括：

发射第一光束；

控制所述第一光束的照射方向，并调整所述第一光束的焦点对准在待加工样品上，以使所述待加工样品的被照射位置发生特性变化，所述特性变化包括折射率的变化和光化学反应；

根据预设轨迹参数控制所述第一光束的焦点与所述待加工样品周期性相对移动，以在所述待加工样品上形成多个微型反射镜结构，形成微型反射镜阵列。

2.根据权利要求1所述的微型反射镜阵列加工方法，其特征在于，所述发射第一光束之前还包括：

基于所述待加工样品确定所述第一光束的预设参数。

3.根据权利要求2所述的微型反射镜阵列加工方法，其特征在于，所述微型反射镜阵列加工方法还包括：

获取所述第一光束的实际参数；

根据所述实际参数与所述预设参数的关系，调整所述第一光束的发射参数。

4.根据权利要求1所述的微型反射镜阵列加工方法，其特征在于，所述根据预设轨迹参数控制所述第一光束的焦点与所述待加工样品周期性相对移动，包括：

根据所述预设轨迹参数，控制所述第一光束以预设扫描参数周期性扫描照射所述待加工样品；

和/或，根据所述预设轨迹参数，控制所述待加工样品周期性移动。

5.根据权利要求1所述的微型反射镜阵列加工方法，其特征在于，控制所述第一光束的照射方向，并调整所述第一光束的焦点对准在待加工样品上，以使所述待加工样品的被照射位置发生特性变化，所述特性变化包括折射率的变化和光化学反应，之前还包括：

对所述第一光束进行准直；

对准直后的所述第一光束进行扩束整形，以调整所述第一光束的光斑。

6.根据权利要求1所述的微型反射镜阵列加工方法，其特征在于，所述微型反射镜阵列加工方法还包括：

实时获取所述待加工样品上的微型反射镜阵列的形成信息；

根据所述微型反射镜阵列的形成信息，调整所述第一光束的发射参数，和/或调整所述第一光束的焦点与所述待加工样品的相对移动参数。

7.根据权利要求6所述的微型反射镜阵列加工方法，其特征在于，所述实时获取所述待加工样品上的微型反射镜阵列的形成信息，包括：

向待加工样品照射第二光束；

在所述第二光束经过所述待加工样品后，获取所述第二光束的光信号，根据所述光信号获得所述待加工样品的图像；

根据所述图像，获得所述微型反射镜阵列的形成信息。

8.一种微型反射镜阵列加工系统，其特征在于，包括：

样品台，用于放置待加工样品；

第一光源，用于发射第一光束；

光学装置，用于控制所述第一光束的照射方向，以使所述第一光束朝向所述待加工样品；

物镜，沿所述第一光束的传播路径设于所述样品台与所述光学装置之间，所述物镜用于调整所述第一光束的焦点对准所述待加工样品上，以使所述待加工样品的被照射位置发生特性变化，所述特性变化包括折射率变化和光化学反应；

其中，所述第一光束的焦点与所述样品台能够根据预设轨迹参数周期性相对移动，以在所述待加工样品上形成多个微型反射镜结构，形成微型反射镜阵列。

9.根据权利要求8所述的微型反射镜阵列加工系统，其特征在于，所述微型反射镜阵列加工系统还包括准直装置和扩束整形装置，所述准直装置和所述扩束整形装置沿所述第一光束的传播路径依次设于所述第一光源与所述光学装置之间；

所述准直装置用于对所述第一光束进行准直；

所述扩束整形装置用于对准直后的所述第一光束进行扩束整形，以调整所述第一光束的光斑与所述物镜相匹配。