[发明专利]微型反射镜阵列加工方法及系统

说明书

本发明涉及微型反射镜阵列器件加工技术领域，提供一种微型反射镜阵列加工方法及系统，其中微型反射镜阵列加工方法包括：发射第一光束；控制第一光束的照射方向，并调整第一光束的焦点对准在待加工样品上，以使待加工样品的被照射位置发生特性变化，特性变化包括折射率的变化和光化学反应；根据预设轨迹参数控制第一光束的焦点与待加工样品周期性相对移动，以在待加工样品上形成多个微型反射镜结构，形成微型反射镜阵列；该加工方法制备方法简单，能够灵活地调整第一光束焦点与待加工样品之间的相对位置改变微型反射镜阵列的几何参数，无需依赖掩膜版，简化了制备步骤，以适应不同条件下的应用。

技术领域

本发明涉及微型反射镜阵列器件加工技术领域，尤其涉及一种微型反射镜阵列加工方法及系统。

背景技术

微镜阵列为一系列等间隔平行排布的微型反射镜，目前在生物医学成像领域应用于单物镜光片荧光显微成像系统。单物镜光片荧光显微成像系统是通过一个物镜同时实现光片激发荧光，以及收集荧光信号。中国专利文件CN111307772B公开的“基于微镜阵列的单物镜光片荧光显微成像装置及方法”，当收集到的荧光信息与激发光片一样沿轴向分布时，使用微型反射镜阵列可使得样品不同深度的荧光信息由微镜阵列的不同位置反射，达到空间光路的分束复用。这样便能够将沿着光轴分布的光片激发样品得到的荧光信息进行有效提取，同时减少对样品处理与对光路调节方面的要求。因此，微型反射镜阵列在单物镜光片荧光显微成像系统中扮演日益重要的角色，也正在成为该系统的核心部件之一。

目前，微型反射镜阵列普遍采用一套结合了光刻、刻蚀以及定向金属气相沉积（例如铝原子蒸镀）的步骤的设备进行制备，需要提前将几何参数设计在掩膜版上，一旦确定无法进行更改，且多重掩膜版之间需要精确对准，以保证光刻与刻蚀区域的精确定位；此外，该方法需要用到额外定制的夹具，来保证金属气相沉积后微型反射镜的排列取向。该方法制备步骤繁琐，材料成本高，制备局限，无法灵活调整微型反射镜阵列的几何参数以适应不同条件下的应用；且一旦掩膜版无法实现精确对准，则很容易造成材料的浪费。

发明内容

本发明提供一种微型反射镜阵列加工方法及系统，用以解决现有技术中微型反射镜阵列制备步骤繁琐，材料成本高，且无法灵活调整微型反射镜阵列的几何参数以适应不同条件下应用的问题；同时避免可能出现的材料浪费问题。

本发明提供一种微型反射镜阵列加工方法，包括：发射第一光束；控制所述第一光束的照射方向，并调整所述第一光束的焦点对准在待加工样品上，以使所述待加工样品的被照射位置发生特性变化，所述特性变化包括折射率的变化和光化学反应；根据预设轨迹参数控制所述第一光束的焦点与所述待加工样品周期性相对移动，以在所述待加工样品上形成多个微型反射镜结构，形成微型反射镜阵列。

根据本发明提供的一种微型反射镜阵列加工方法，所述发射第一光束之前还包括：基于所述待加工样品确定所述第一光束的预设参数。

根据本发明提供的一种微型反射镜阵列加工方法，所述微型反射镜阵列加工方法还包括：获取所述第一光束的实际参数；根据所述实际参数与所述预设参数的关系，调整所述第一光束的发射参数。

根据本发明提供的一种微型反射镜阵列加工方法，所述根据预设轨迹参数控制所述第一光束的焦点与所述待加工样品周期性相对移动，包括：根据所述预设轨迹参数，控制所述第一光束以预设扫描参数周期性扫描照射所述待加工样品；和/或，根据所述预设轨迹参数，控制所述待加工样品周期性移动。

根据本发明提供的一种微型反射镜阵列加工方法，控制所述第一光束的照射方向，并调整所述第一光束的焦点对准在待加工样品上，以使所述待加工样品的被照射位置发生特性变化，所述特性变化包括折射率的变化和光化学反应，之前还包括：对所述第一光束进行准直；对准直后的所述第一光束进行扩束整形，以调整所述第一光束的光斑。