[发明专利]使遮罩曝光于极紫外光的方法以及极紫外光微影系统

权利要求书

1.一种在一半导体制造工艺中使一遮罩曝光于极紫外光的方法，其特征在于，该方法包含以下步骤：

在一极紫外光微影系统中装载该遮罩，该极紫外光微影系统包括：

一中空连接部件，该中空连接部件在一极紫外光源与一扫描器之间，该中空连接部件包括与一排气泵流体连通的一入口；

操作该排气泵；及

使该遮罩曝露于来自该极紫外光源的该极紫外光。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，进一步包含以下步骤：经由该入口抽取来源于该极紫外光源的污染物。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，进一步包含以下步骤：

在操作该排气泵之前由一处理器判定该排气泵的一操作参数。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，进一步包含以下步骤：

将电流供应至与该中空连接部件相关联的一电磁体。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，该中空连接部件包括多个永久磁体部件，所述多个永久磁体部件包括一第一永久磁体部件及一第二永久磁体部件，且其中该第一永久磁体部件的一磁力大于该第二永久磁体部件的一磁力。

6.一种在一半导体制造工艺中使一遮罩曝光于极紫外光的方法，其特征在于，该方法包含以下步骤：

由一处理器判定一排气泵的一操作参数，该步骤包括以下步骤：

量测一微影系统的一扫描器中的真空压力；及

基于该扫描器中的该真空压力来判定操作该排气泵所用的一速度，

其中该排气泵与一中空连接部件流体连通，该中空连接部件在该扫描器与该微影系统的一光源之间。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，进一步包含以下步骤：

以操作该排气泵所用的该经判定速度来操作该排气泵。

8.一种极紫外光微影系统，其特征在于，包含：

一处理器；

一极紫外光源，包括：

一液滴产生器，用以产生一液滴；

一集光器，用以将极紫外光反射至一中间焦点中；及

一光产生器，用以产生预脉冲光及主脉冲光，其中该液滴回应于该液滴由该预脉冲光及该主脉冲光照明而产生该极紫外光；

一扫描器，包括：

一遮罩载台；及

一基板台；及

一中空连接部件，包括与一排气泵流体连通的一入口，其中该中空连接部件包括该中间焦点安置所在的一中空空间，该中空连接部件安置于该极紫外光源与该扫描器之间。

9.如权利要求8所述的极紫外光微影系统，其特征在于，进一步包含一磁体部件，该磁体部件邻近于该入口。

10.如权利要求8所述的极紫外光微影系统，其特征在于，进一步包含邻近于与该扫描器邻近的该中空连接部件的一末端配置的多个吸取臂，所述多个吸取臂与该排气泵流体连通。