[发明专利]一种晶圆UV擦除设备的控制方法在审

专利信息
申请号: 202210874604.3 申请日: 2022-07-22
公开(公告)号: CN115295051A 公开(公告)日: 2022-11-04
发明(设计)人: 魏强;郑朝生;袁俊;卢旭坤;张亦锋;辜诗涛 申请(专利权)人: 广东利扬芯片测试股份有限公司
主分类号: G11C16/14 分类号: G11C16/14;G06F3/06
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 刘光明
地址: 523000 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 uv 擦除 设备 控制 方法
【权利要求书】:

1.一种晶圆UV擦除设备的控制方法,其特征在于,所述晶圆UV擦除设备包括上位机、UV机和计时装置,所述控制方法包括:

所述上位机获取对应待擦除晶圆的第一配置信息,并根据所述第一配置信息发送环境配置指令至所述UV机;

所述UV机根据所述环境配置指令对所述待擦除晶圆配置擦除环境;

当所述擦除环境配置完成时,所述上位机根据所述第一配置信息发送预设时长指令至所述计时装置;

所述计时装置根据所述预设时长指令进行计时,当达到预设时长时,向所述UV机发送停机指令以使所述UV机停止擦除工作。

2.根据权利要求1所述的晶圆UV擦除设备的控制方法,其特征在于,

所述计时装置包括存储单元和处理单元;

所述计时装置计时时,所述处理单元同步将计时状态存储进所述存储单元;

当所述计时装置在计时过程中断电重启后,所述处理单元获取所述存储单元内存储的所述计时状态以使所述计时装置接续断电时的所述计时状态进行计时。

3.根据权利要求2所述的晶圆UV擦除设备的控制方法,其特征在于,还包括:

当所述晶圆UV擦除设备在晶圆擦除工作中断电重启后,所述上位机获取擦除环境的第一环境信息,并确定所述第一环境信息与所述第一配置信息中的环境配置信息的误差值是否在第一预设范围之内;

当确定所述第一环境信息与所述第一配置信息中的环境配置信息的误差值在所述第一预设范围之外时,使所述UV机对所述待擦除晶圆重新配置擦除环境;

待所述UV机将擦除环境配置完成时,所述计时装置获取续时指令以进行计时。

4.根据权利要求1所述的晶圆UV擦除设备的控制方法,其特征在于,

所述第一配置信息包括擦除所述待擦除晶圆所要求的UV光强度信息和温度信息。

5.根据权利要求4所述的晶圆UV擦除设备的控制方法,其特征在于,所述UV机内设有温度传感器和电流采样模块,所述电流采样模块用于侦测所述UV机内UV灯的电流;

当所述UV机根据所述环境配置指令对所述待擦除晶圆配置擦除环境时,所述上位机获取来自所述温度传感器的温度信息和所述电流采样模块的电流信息,并根据所述电流信息转换出对应的UV光强度信息;

若所述上位机获取的温度信息和转换的UV光强度信息与所述第一配置信息中的温度信息和UV光强度信息一致,则确定擦除环境配置完成。

6.根据权利要求1所述的晶圆UV擦除设备的控制方法,其特征在于,还包括:

设有预设配置时间;

记录所述UV机配置擦除环境的时间;

当所述UV机配置擦除环境的时间大于或大于等于所述预设配置时间时,所述上位机发出预警信息。

7.根据权利要求1所述的晶圆UV擦除设备的控制方法,其特征在于,还包括:

在所述UV机进行晶圆擦除工作过程中,所述上位机每间隔预设时间记录擦除环境的第一环境信息,并根据所述第一环境信息生成擦除环境报告。

8.根据权利要求1所述的晶圆UV擦除设备的控制方法,其特征在于,还包括:

在所述UV机进行晶圆擦除工作过程中,所述上位机获取擦除环境的第一环境信息;

当所述第一环境信息与所述第一配置信息中的环境配置信息的误差值在第二预设范围之外时,所述上位机发出预警信息。

9.根据权利要求1所述的晶圆UV擦除设备的控制方法,其特征在于,还包括:

当所述上位机发送所述预设时长指令至所述计时装置并使所述计时装置开始计时时,所述上位机根据所述第一配置信息中的时长信息进行计时;

当所述上位机计时达到所述预设时长时,向所述UV机发送停机指令以使所述UV机停止擦除工作。

10.一种晶圆UV擦除设备,其特征在于,包括:

上位机、UV机和计时装置,所述上位机分别与所述UV机和所述计时装置通讯连接,所述计时装置与所述UV机通讯连接;

所述上位机被配置为获取对应待擦除晶圆的第一配置信息,并根据所述第一配置信息发送环境配置指令至所述UV机,以及根据所述第一配置信息发送预设时长指令至所述计时装置;

所述UV机被配置为根据所述环境配置指令对所述待擦除晶圆配置擦除环境;

所述计时装置被配置为根据所述预设时长指令进行计时,当达到预设时长时,向所述UV机发送停机指令以使所述UV机停止擦除工作。

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