[发明专利]一种晶圆UV擦除设备的控制方法在审

专利信息
申请号: 202210874604.3 申请日: 2022-07-22
公开(公告)号: CN115295051A 公开(公告)日: 2022-11-04
发明(设计)人: 魏强;郑朝生;袁俊;卢旭坤;张亦锋;辜诗涛 申请(专利权)人: 广东利扬芯片测试股份有限公司
主分类号: G11C16/14 分类号: G11C16/14;G06F3/06
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 刘光明
地址: 523000 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 uv 擦除 设备 控制 方法
【说明书】:

发明公开了一种晶圆UV擦除设备的控制方法,其中,晶圆UV擦除设备包括上位机、UV机和计时装置,控制方法包括:上位机获取对应待擦除晶圆的第一配置信息,并根据第一配置信息发送环境配置指令至UV机;UV机根据环境配置指令对待擦除晶圆配置擦除环境;当擦除环境配置完成时,上位机根据第一配置信息发送预设时长指令至计时装置;计时装置根据预设时长指令进行计时,当达到预设时长时,向UV机发送停机指令以使UV机停止擦除工作。本发明通过独立于上位机的计时装置进行计时,且计时装置在计时达到预设时长后可发送停机指令以使UV机停止擦除工作,避免了因上位机出现异常、宕机而导致无法使UV机停止工作的情况。

技术领域

本发明涉及晶圆数据擦除技术领域,尤其涉及一种晶圆UV擦除设备的控制方法。

背景技术

目前,在需要对芯片进行测试时,有时需要向芯片内写入数据,当完成测试项目后,则需要清除芯片内的数据,在芯片测试行业中,一般采用UV擦除设备对晶圆进行UV光照射,以擦除测试过程中写入的数据。

在工作人员使用UV擦除设备对晶圆进行数据擦除时,需要对UV擦除设备设置对应参数,使得晶圆在预设的条件下被UV光照射对应的时间,进而完成对晶圆的数据擦除工作,晶圆的数据擦除对UV光照射的时间是有着严格的要求,当照射时间不足时,会使得晶圆内仍残存未擦除的数据,而当UV擦除设备在进行晶圆数据擦除工作时,若设备出现断电或者设备系统出现异常,则会导致UV擦除设备计时异常,从而导致无法确定晶圆是否在UV光下照射足够时间。

因此,提出一种能够解决上述问题的晶圆UV擦除设备的控制方法显得尤为必要。

发明内容

本发明的目的是提供一种晶圆UV擦除设备的控制方法及晶圆UV擦除设备,能够通过独立于上位机的计时装置进行计时,避免了因上位机出现异常、宕机而导致无法使UV机停止工作的情况。

为了实现上述目的,本发明公开了一种晶圆UV擦除设备的控制方法,所述晶圆UV擦除设备包括上位机、UV机和计时装置,所述控制方法包括:

所述上位机获取对应待擦除晶圆的第一配置信息,并根据所述第一配置信息发送环境配置指令至所述UV机;

所述UV机根据所述环境配置指令对所述待擦除晶圆配置擦除环境;

当所述擦除环境配置完成时,所述上位机根据所述第一配置信息发送预设时长指令至所述计时装置;

所述计时装置根据所述预设时长指令进行计时,当达到预设时长时,向所述UV机发送停机指令以使所述UV机停止擦除工作。

可选地,所述计时装置包括存储单元和处理单元;

所述计时装置计时时,所述处理单元同步将计时状态存储进所述存储单元;

当所述计时装置在计时过程中断电重启后,所述处理单元获取所述存储单元内存储的所述计时状态以使所述计时装置接续断电时的所述计时状态进行计时。

可选地,所述控制方法还包括:当所述晶圆UV擦除设备在晶圆擦除工作中断电重启后,所述上位机获取擦除环境的第一环境信息,并确定所述第一环境信息与所述第一配置信息中的环境配置信息的误差值是否在第一预设范围之内;

当确定所述第一环境信息与所述第一配置信息中的环境配置信息的误差值在所述第一预设范围之外时,使所述UV机对所述待擦除晶圆重新配置擦除环境;

待所述UV机将擦除环境配置完成时,所述计时装置获取续时指令以进行计时。

可选地,所述第一配置信息包括擦除所述待擦除晶圆所要求的UV光强度信息和温度信息。

可选地,所述UV机内设有温度传感器和电流采样模块,所述电流采样模块用于侦测所述UV机内UV灯的电流;

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