[发明专利]一种工装及物理气相沉积设备

说明书

本发明公开了一种工装，包括工装单元和底盘，工装单元包括拨轮和传动机构，拨轮上设有多个安装件，传动机构与拨轮转动连接，传动机构用于带动安装件自转；底盘上设有多个工装单元。本发明中通过设置多个安装件，能够实现产品的安装，能够有效提高产品安装数量，提高单次镀膜产品数量，减小生产成本；通过设置传动机构，能够带动安装件自转，底盘安装到物理气相沉积设备后能够实现围绕物理气相沉积设备中心的公转、围绕工装中心的自转、围绕拨轮中心固定角度自转和安装件自转，能够使产品的涂层均匀性显著提升。

技术领域

本发明涉及物理气相沉积技术领域，特别涉及一种工装及物理气相沉积设备。

背景技术

气相沉积技术俗称涂层技术，是指在目标产品上沉积涂覆一层或多层硬度高、耐磨性好的难熔金属或非金属化合物薄膜，如TiC、TiN、Al₂O₃等，谋求提高耐磨性、导电导热性、抗氧化性等特殊性能。物理气相沉积(以下简称PVD)，指使用真空蒸镀、溅射镀膜或离子镀等等物理的方法，使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。其特点是：其一，沉积温度低，可在500℃以下进行涂层，能在对温度敏感的产品上进行涂层，对硬质合金产品的强度不会产生影响；其二，PVD涂层内产生压应力，有利于提高硬质合金的使用性能，更适合于对硬质合金精密复杂刀具进行涂层；其三,PVD涂层技术能合成化学气相沉积技术不能合成的高熔点金属的三元、四元乃至多元氮化物，在沉积不稳定和亚稳定的多组分化合物方面有其明显的优势。

PVD方法所采用的装置有多种形式，一般要求产品在设备腔体内部作往返或旋转运动，由此得到相比产品静止的情形更为均匀的膜厚。由于早期的物理气相沉积设备无法控制入射离子的角度，产品的夹持装置一般采用倾斜夹持旋转设计，以便使产品表面与离子入射方向相对垂直。然而，这种设计空间利用率低，大大限制了涂层设备内部产品的装载数量。近年来，PVD设备发展迅速，当前主流的PVD涂层设备均配备有偏转磁场，可实现离子多角度入射，保障涂层覆盖到产品的各个表面。因此，产品的装持装置无需再考虑倾斜机构，逐渐发展为往大装载量发展的趋势，以期提高生产效率；并且现有的涂层设备产品的涂层均匀性有待提高。

发明内容

本申请的目的在于提供一种工装及物理气相沉积设备，既能确保产品涂层的均匀性、致密性，又能充分利用物理气相沉积设备空间，实现中小尺寸规格产品的大批量生产，提高工业生产效率。

为实现上述目的，本申请提供如下技术方案：

本发明的一种工装，包括：

工装单元，包括拨轮和传动机构，所述拨轮上设有多个安装件，所述传动机构与所述拨轮转动连接，所述传动机构用于带动所述安装件自转；

底盘，所述底盘上设有多个所述工装单元，所述拨轮与所述底盘转动连接。

进一步地，所述传动机构包括磁性件，所述磁性件设于所述拨轮的中心处，所述安装件以所述拨轮的中轴线为中心周向均匀的分布在所述磁性件的外侧，所述安装件与所述磁性件相邻的部分能够被所述磁性件吸引。

进一步地，所述拨轮的上表面设有第二通孔和第二安装孔，所述第二通孔设于所述拨轮的中心处，所述第二安装孔以所述拨轮的中轴线为中心周向均匀的分布，所述安装件下端伸入所述第二安装孔内。

进一步地，所述工装单元还包括：

轴座，所述轴座的下端与所述底盘连接，所述轴座的上端与所述第二通孔转动连接，所述轴座的上端设有用于安装所述磁性件的第三安装孔。

进一步地，所述拨轮的外周面均匀分布多个轮齿。

进一步地，所述第二安装孔和所述第二通孔连通。

进一步地，所述安装件包括多个装配芯杆和套管，所述套管设于所述装配芯杆的上方，所述装配芯杆与所述套管一一对应连接，所述装配芯杆下端与所述拨轮转动连接。