[发明专利]一种纳米压印的方法

说明书

本申请实施例提供了一种纳米压印的方法。该纳米压印的方法包括：提供压印模板，所述压印模板具有压印结构；提供基板，在所述基板的一表面上涂覆压印胶形成压印胶层；通过所述压印模板对所述压印胶层进行多次压印，其中当前压印时的压力值相较于上一次压印时的压印值增大；固化所述压印胶层，并将所述压印模板从所述压印胶层上脱模。本申请实施例提供的纳米压印的方法减少了压印胶层中的气泡，甚至使得压印胶层中没有气泡，进而可以避免出现残次品产品的情况，从而可以提升产品质量。

技术领域

本申请实施例涉及纳米压印技术领域，更具体地，本申请实施例涉及一种纳米压印的方法。

背景技术

纳米压印技术，是通过压印胶辅助，将模板上的微纳结构转移到待加工材料上的技术。该技术通过机械转移的手段，达到了超高的分辨率，有望在未来取代传统光刻技术，成为微电子、材料领域的重要加工手段。

纳米压印工艺是指在压印模具与基材之间布设胶水，并使得压印模具上的预设图形转印以形成胶水层的一种工艺。

然而，由于胶水中通常会存在气泡，导致胶水层中也会存在气泡，尤其是当压印模具上的预设图形所对应的胶水层中存在气泡时，会使得由该压印模具压印得到的产品中也存在气泡或者残缺等，影响产品质量。

发明内容

本申请的目的在于提供一种纳米压印的方法新技术方案。

第一方面，本申请提供了一种纳米压印的方法。该纳米压印的方法包括：提供压印模板，所述压印模板具有压印结构；

提供基板，在所述基板的一表面上涂覆压印胶形成压印胶层；

通过所述压印模板对所述压印胶层进行多次压印，其中当前压印时的压力值相较于上一次压印时的压印值增大；

固化所述压印胶层，并将所述压印模板从所述压印胶层上脱模。

可选地，通过所述压印模板对所述压印胶层进行多次压印的步骤包括，多次压印过程中压印模板是相同的，并且每一次压印时，所述压印模板的压印位置相同。

可选地，在所述基板的一表面上涂覆压印胶形成压印胶层的步骤之后，还包括：

对所述压印胶层进行烘烤处理，其中烘烤的温度为60℃-100℃，烘烤的时间小于2分钟。

可选地，当前压印时的压印速度相较于上一次压印时的压印速度减慢。

可选地，通过所述压印模板对所述压印胶进行多次压印，其中2次≤压印次数≤4次。

可选地，第一次压印的压印值为2kpa-4kpa；第二次压印的压力值为第一次压印值的至少3倍。

可选地，第一次压印的压印速度大于10mm/s；第二次压印的压印速度为小于10mm/s。

可选地，将所述压印模板从所述压印胶层上脱模之后，还包括：刻蚀去除多余的压印胶层。

可选地，在所述压印模板对所述压印胶层进行第一次压印之前，还包括：

在所述压印模板的表面形成防粘连层。

可选地，固定所述压印胶的方法包括：通过紫外线照射的方法对所述压印胶进行固化。

根据本申请的实施例，通过对基板上的压印胶层进行多次压印，并且每次压印过程中的压力值逐渐增大，使得压印过程中以减少压印胶层中的气泡，甚至使得压印胶层中没有气泡，进而可以避免出现残次品产品的情况，从而可以提升产品质量。

通过以下参照附图对本说明书的示例性实施例的详细描述，本说明书的其它特征及其优点将会变得清楚。

附图说明