[发明专利]超分辨率SEM图像实现装置及其方法在审
申请号: | 202210921491.8 | 申请日: | 2022-08-02 |
公开(公告)号: | CN115936981A | 公开(公告)日: | 2023-04-07 |
发明(设计)人: | 李昊俊;金一权;朴祥杰;郑椙旭;车文铉;S·B·金 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | G06T3/40 | 分类号: | G06T3/40;G06T5/00 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 赵南;李竞飞 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 分辨率 sem 图像 实现 装置 及其 方法 | ||
一些示例实施例涉及一种超分辨率扫描电子显微镜(SEM)图像实现装置和/或其方法。提供了一种超分辨率扫描电子显微镜(SEM)图像实现装置,其包括处理器,处理器被配置为裁剪低分辨率SEM图像以生成第一裁剪图像和第二裁剪图像,放大第一裁剪图像和第二裁剪图像以生成第一放大图像和第二放大图像,并且从第一放大图像和第二放大图像中消除噪声以生成第一噪声消除图像和第二噪声消除图像。
相关申请的交叉引用
本申请要求于2021年8月4日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2021-0102440和于2021年10月5日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2021-0131782的优先权,这些申请的内容以引用方式全文并入本文中。
技术领域
一些示例实施例涉及一种超分辨率扫描电子显微镜(SEM)图像实现装置和/或其方法(例如,操作方法)。
背景技术
随着半导体装置的发展困难程度增大,半导体装置的工艺评估的重要性增大。在半导体装置的工艺评估中,可基于通过扫描电子显微镜(SEM)设备获得的图像执行半导体装置的工艺评估。
在这种情况下,当获得通过SEM设备获得的SEM图像作为超分辨率图像,并且基于超分辨率图像执行半导体装置的工艺评估时,会出现长周转时间(TAT)。然而,当通过低分辨率SEM图像执行半导体装置的工艺评估时,评估精度会降低。
发明内容
通过基于通过SEM设备获得的低分辨率SEM图像利用深度学习实现超分辨率SEM图像,TAT可降低,并且半导体装置的工艺评估精度可提高。
示例实施例的一些方面提供了一种超分辨率扫描电子显微镜(SEM)图像实现装置,其根据低分辨率SEM图像实现可靠性提高的超分辨率SEM图像。
可替换地或者另外地,一些示例实施例提供了一种根据低分辨率SEM图像实现可靠性提高的超分辨率SEM图像的超分辨率SEM图像实现方法。
可替换地或者另外地,一些示例实施例提供了一种根据低分辨率SEM图像实现可靠性提高的超分辨率SEM图像的超分辨率SEM图像实现系统。
根据一些示例实施例,提供了一种超分辨率扫描电子显微镜(SEM)图像实现装置,该超分辨率扫描电子显微镜(SEM)图像实现装置包括处理器,该处理器被配置为执行机器可读指令,以使得该装置:裁剪低分辨率SEM图像以生成第一裁剪图像和第二裁剪图像;放大第一裁剪图像和第二裁剪图像以生成第一放大图像和第二放大图像;以及从第一放大图像和第二放大图像中消除噪声,以生成第一噪声消除图像和第二噪声消除图像。
根据一些示例实施例,提供了一种超分辨率SEM图像实现方法,该超分辨率SEM图像实现方法包括:通过由处理器裁剪低分辨率SEM图像来生成第一裁剪图像和第二裁剪图像;通过由处理器放大第一裁剪图像和第二裁剪图像来生成第一放大图像和第二放大图像;以及通过由处理器从第一放大图像和第二放大图像中消除噪声来生成第一噪声消除图像和第二噪声消除图像。
根据一些示例实施例,提供了一种超分辨率SEM图像实现系统,该超分辨率SEM图像实现系统包括:中央处理单元、连接至中央处理单元的总线、以及经由总线与中央处理单元通信的超分辨率SEM图像实现装置,该超分辨率SEM图像实现装置包括处理器,该处理器被配置为:裁剪低分辨率SEM图像以生成第一裁剪图像和第二裁剪图像;放大第一裁剪图像和第二裁剪图像以生成第一放大图像和第二放大图像;以及从第一放大图像和第二放大图像中消除噪声,以生成第一噪声消除图像和第二噪声消除图像。
附图说明
通过参照附图详细描述本公开的一些示例实施例,本公开的以上和其它方面和特征将变得更清楚,在附图中:
图1是示出根据一些示例实施例的超分辨率扫描电子显微镜(SEM)图像实现系统的示出性框图。
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