[发明专利]显示面板的制备方法以及显示装置在审

专利信息
申请号: 202210923738.X 申请日: 2022-08-02
公开(公告)号: CN115207262A 公开(公告)日: 2022-10-18
发明(设计)人: 张亮 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/52;H01L27/32
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 熊恒定
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 制备 方法 以及 显示装置
【说明书】:

发明提供了一种显示面板的制备方法以及显示装置,显示面板的制备方法包括:提供量子点荧光膜和发光基板,量子点荧光膜包括多个阵列排布的量子点涂层,发光基板包括多个阵列排布的发光单元,在量子点荧光膜和发光基板的其中之一上形成第一过孔,在量子点荧光膜和发光基板的其中另一上形成对应于第一过孔的第二过孔或光反射点,通过第一过孔和第二过孔或通过第一过孔和光反射点,将量子点荧光膜与发光基板进行对位,以使多个量子点涂层与多个发光单元一一对应,本发明通过利用在量子点荧光膜和发光基板上分别增设的相对应的第一过孔和第二过孔或光反射点,以保证多个量子点涂层与多个发光单元对位的精度。

技术领域

本发明总体上涉及显示面板技术领域,具体的,涉及一种显示面板的制备方法以及显示装置。

背景技术

随着电子技术的不断发展,生活中越来越多的应用场景都需要使用到显示面板,在制备显示面板的过程中,通常需要将两块基板进行对位。

基于此,如何保证上述对位过程的精度,是目前需要解决的问题。

发明内容

为了解决上述问题或其他问题,本发明提供了以下技术方案。

第一方面,本发明提供了一种显示面板的制备方法,所述制备方法至少包括:

提供量子点荧光膜和发光基板,其中,所述量子点荧光膜包括多个阵列排布的量子点涂层,所述发光基板包括多个阵列排布的发光单元;

在所述量子点荧光膜和所述发光基板的其中之一上形成第一过孔,所述第一过孔贯穿所述量子点荧光膜或所述发光基板;

在所述量子点荧光膜和所述发光基板的其中另一上形成对应于所述第一过孔的第二过孔或光反射点,所述第二过孔贯穿所述量子点荧光膜或所述发光基板;以及,

通过所述第一过孔和所述第二过孔或通过所述第一过孔和所述光反射点,将所述量子点荧光膜与所述发光基板进行对位,以使多个所述量子点涂层与多个所述发光单元一一对应。

根据本发明一实施例的制备方法,所述通过所述第一过孔和所述第二过孔或通过所述第一过孔和所述光反射点,将所述量子点荧光膜与所述发光基板进行对位,以使多个所述量子点涂层与多个所述发光单元一一对应的步骤,至少包括:

在形成有所述第一过孔的所述量子点荧光膜或所述发光基板的下方设置激光平台;

在所述通过所述第一过孔和所述第二过孔或通过所述第一过孔和所述光反射点,将所述量子点荧光膜与所述发光基板进行对位的过程中,计算所述激光平台接收到的光通量;以及,

当所述光通量达到最大值时,确定多个所述量子点涂层与多个所述发光单元已一一对应。

根据本发明一实施例的制备方法,当所述量子点荧光膜和所述发光基板的其中另一上形成了对应于所述第一过孔的所述第二过孔时,所述在形成有所述第一过孔的所述量子点荧光膜或所述发光基板的下方设置激光平台的步骤,具体包括:

在形成有所述第一过孔的所述量子点荧光膜或所述发光基板的下方设置第一激光平台,并在形成有所述第二过孔的所述量子点荧光膜或所述发光基板的上方设置第二激光平台;

其中,当所述第一激光平台和所述第二激光平台的其中之一被配置为发出激光时,所述第一激光平台和所述第二激光平台的其中另一被配置为通过所述第一过孔和所述第二过孔接收所述激光。

根据本发明一实施例的制备方法,当所述量子点荧光膜和所述发光基板的其中另一上形成了对应于所述第一过孔的所述光反射点时,所述在形成有所述第一过孔的所述量子点荧光膜或所述发光基板的下方设置激光平台的步骤,具体包括:

在形成有所述第一过孔的所述量子点荧光膜或所述发光基板的下方设置第三激光平台,其中,所述第三激光平台被配置为发出激光,并被配置为通过所述第一过孔和所述光反射点接收所述激光。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司,未经深圳市华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210923738.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top