[发明专利]一种单晶硅片超精密磨削表面形貌的测量装置

说明书

本发明公开了一种单晶硅片超精密磨削表面形貌的测量装置，包括测量仪存放箱，所述测量仪存放箱整体材质为透明可视材质，所述测量仪存放箱的内部放置有测量仪机体，所述测量仪存放箱的上表面左右对称均滑动连接有滑盖，当用户打开滑盖后，将待检测的单晶硅片放置在测量仪机体下方的检测部位，在关闭两组滑盖时滑动弹簧抵轴则会带动凸型连杆反向滑动，致使撑托板带动测量仪机体回至测量仪存放箱内部，此时测量仪机体处于较为封闭的空间，故当用户在户外或者其他环境较差的场所内使用测量仪机体时，能够有效地减少外部灰尘和杂质附着在测量仪机体以及待检测的单晶硅片的表面，从而避免了因外部因素干扰影响到测量仪机体检测单晶硅片的准确性。

技术领域

本发明涉及单晶硅片磨削表面形貌的测量技术领域，具体是涉及一种单晶硅片超精密磨削表面形貌的测量装置。

背景技术

单晶硅片是一种比较活泼的非金属元素，是晶体材料的重要组成部分，其正处于新材料发展的前沿，单晶硅片可用于半导体材料和利用太阳能光伏发电、供热等，目前已成为世界快速、稳定发展的新兴产业之一；

而单晶硅片在制备的处理工艺中，需要先对硅质棒材进行切削成片并进行打磨，而切削打磨后的单晶硅片需要由专业的检测设备对其磨削表面的样貌进行测量，即该专业设备为：表面样貌测量仪，其用于测量切削打磨后的硅片表面的形貌，从而通过导出成像后以便于进行后续的其他处理工艺，而在仪器进行测量时需要保证周围环境的纯净度，故一般会在无尘实验室或是无尘车间进行操作，而无尘车间按照清洁等级划分为：10级-10000级，不同标准不同的清洁等级洁净度，而目前适用于精密、微型的电子科技行业的无尘车间的标准如下:10级:0.1um浓度s10,0.2um浓度≤2，该标准下均属于理论化的场景，即使此环境下空气中的灰尘含量极低，但仍然会存有一定量的灰尘，而外部的灰尘和杂质都会影响到设备的检测精度，而在目前已授权公布的专利号为：CN 209764061 U的实用新型专利中提出：“因晶片粘贴在陶瓷盘上，通常是将陶瓷盘放在光滑平整的大理石上，然后在上方固定一个伸缩式量表进行测量，这种方式受环境影响，大理石表面掉落颗粒或长时间磨损导致测量不准确”，由此可见在仪器检测晶片的过程中，仍然存在有颗粒等其他杂质，此外当仪器在运输的途中也易对设备造成损伤，鉴于此本发明提出一种新型的单晶硅片超精密磨削表面形貌的测量装置。

发明内容

为解决上述技术问题，提供一种单晶硅片超精密磨削表面形貌的测量装置，本技术方案解决了上述背景技术中提出的现有设备使用时局限性大，使用不便捷、运输时安全性差等技术问题。

为达到以上目的，本发明采用的技术方案为：一种单晶硅片超精密磨削表面形貌的测量装置，包括测量仪存放箱，所述测量仪存放箱整体材质为透明可视材质，所述测量仪存放箱的内部放置有测量仪机体，所述测量仪存放箱的上表面左右对称均滑动连接有滑盖，所述测量仪存放箱的背侧设置有导线管，且导线管贯穿至测量仪存放箱的背侧，所述测量仪存放箱的内部设置有联动托举机构，所述测量仪机体的下方设置有随动纠偏夹持机构，且随动纠偏夹持机构的左右两侧对称设置有辅助擦拭清洁机构，所述测量仪存放箱内部的底面设置有机体稳固机构；

所述联动托举机构包括燕尾槽、燕尾滑块、内槽滑板、滑动弹簧抵轴、凸型连杆、直角限定件、撑托板、联动条，所述测量仪存放箱的前侧内壁呈左右对称均固定连接有燕尾槽，所述燕尾滑块的外侧固定连接有联动，且联动条的外端贯穿至测量仪存放箱的前侧，所述联动条的上端固定连接于滑盖的前侧底部，所述燕尾滑块的内侧固定连接有内槽滑板，且内槽滑板的内侧表面设置有滑动弹簧抵轴，所述滑动弹簧抵轴的上端固定连接有凸型连杆，该凸型连杆位呈前后对称设置的四组，且位于测量仪存放箱前侧的两组凸型连杆的前侧活动插接于直角限定件的内侧端头，而位于测量仪存放箱背侧的两组凸型连杆与测量仪存放箱的背侧内壁呈滑动连接，且凸型连杆的内侧下端固定连接有撑托板，所述内槽滑板的上表面固定连接有直角限定件。

优选的，所述内槽滑板的内部开设有四边形滑槽，且四边形滑槽与滑动弹簧抵轴的外端头呈滑动连接，所述滑动弹簧抵轴的内部通过弹簧套接有内抵轴，且内抵轴抵接于四边形滑槽的内部。