[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示面板

权利要求书

1.一种阵列基板，包括：衬底，所述衬底上设有阵列排布的多个像素区域，各所述像素区域包括多个子像素区域，各所述子像素区域均包括开口区和非开口区，所述非开口区内设有薄膜晶体管；其特征在于，所述多个子像素区域包括第一子像素区域、第二子像素区域和第三子像素区域，所述第一子像素区域、第二子像素区域和第三子像素区域内的所述薄膜晶体管分别为第一薄膜晶体管、第二薄膜晶体管、第三薄膜晶体管；

所述阵列基板还包括依次形成在所述衬底上的光吸收层和第一色阻层，所述第一色阻层位于所述第一薄膜晶体管远离所述衬底的一侧，所述第一色阻层的至少部分位于所述第一子像素区域的开口区内，所述光吸收层位于所述第一子像素区域的非开口区内，所述光吸收层仅覆盖所述第一薄膜晶体管；

所述阵列基板还包括形成于第二子像素区域内的第二色阻层和形成于第三子像素区域内的第三色阻层；

其中，所述光吸收层的激发波长大于所述第一色阻层的激发波长；

所述第一色阻层为采用曝光波长为365nm-395nm的曝光机曝光而成的蓝色色阻层，所述第一色阻层的激发波长大于所述曝光机的曝光波长，所述光吸收层用于吸收所述曝光机所发出的光能。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，

所述多个子像素区域还包括第二子像素区域，所述第二子像素区域内的所述薄膜晶体管为第二薄膜晶体管，所述阵列基板还包括第二色阻层，所述第二色阻层的至少部分位于所述第二子像素区域的开口区内，其中，

所述第二色阻层与所述光吸收层为相同颜色的色阻层，且所述第二色阻层与所述光吸收层同层设置。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述子像素区域还包括第三子像素区域，所述第三子像素区域内的所述薄膜晶体管为第三薄膜晶体管，所述阵列基板还包括第三色阻层，所述第三色阻层的至少部分位于所述第三子像素区域的开口区内；其中，

所述第二色阻层和所述第三色阻层中一者为红色色阻层，另一者为绿色色阻层。

4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述第一色阻层还位于所述第一子像素区域的非开口区内，且所述第一色阻层完全覆盖所述光吸收层。

5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述第二色阻层的上表面与所述第一色阻层的上表面以及所述第三色阻层的上表面均相齐平。

6.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-5任一项所述的阵列基板，所述显示面板还包括液晶层和对置基板，所述对置基板与所述阵列基板相对设置，且所述液晶层设于所述对置基板与所述阵列基板之间。

7.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括；提供衬底，所述衬底包括多个像素区域，所述像素区域包括多个子像素区域，所述多个子像素区域包括第一子像素区域；

在各所述子像素区域的非开口区内形成薄膜晶体管，所述第一子像素区域内的所述薄膜晶体管为第一薄膜晶体管；

在所述第一子像素区域内的非开口区内形成仅覆盖所述第一薄膜晶体管的光吸收层；

在所述第一子像素区域内形成第一色阻层，所述第一色阻层的至少部分位于所述第一子像素区域的开口区；

所述光吸收层的激发波长大于所述第一色阻层的激发波长；

所述第一色阻层为采用曝光波长为365nm-395nm的曝光机曝光而成的蓝色色阻层，所述第一色阻层的激发波长大于所述曝光机的曝光波长，所述光吸收层用于吸收所述曝光机所发出的光能。