[发明专利]一种半导体器件引脚尺寸检测方法、设备及存储介质

权利要求书

1.一种半导体器件引脚尺寸检测方法，其特征在于，包括：

采用高斯滤波及自适应阈值分割法对目标图像进行预处理；

在目标图像预先设置的ROI区域内，根据目标边缘拟合得到基准直线；

在每个引脚的ROI区域内根据引脚边缘均值拟合得到引脚顶点，由引脚顶点到基准直线作垂线得到引脚长度；

根据基准直线对目标图像进行角度校正，获取校正后的目标图像的引脚区域图，并求得引脚轮廓；

获得引脚轮廓中每个子轮廓的质心，并以质心坐标替代引脚顶点坐标，根据质心间距获得引脚间距。

2.根据权利要求1所述的半导体器件引脚尺寸检测方法，其特征在于，所述采用高斯滤波及自适应阈值分割法对目标图像进行预处理，具体为：

使用ROI模版对目标图像进行切片得到图像I，确定半导体器件的尺寸检测区域，然后使用高斯滤波对图像进行去噪处理；

使用OTSU算法获取目标图像分割最佳阈值T；

使用最佳阈值T将目标图像二值化。

3.根据权利要求2所述的半导体器件引脚尺寸检测方法，其特征在于，所述使用OTSU算法获取目标图像分割最佳阈值T，具体为：

寻找目标图像的最大灰度值及最小灰度值，分别记为max和min，让阈值变量T遍历区间[min,max],每遍历一个T值，记T为当前阈值，然后根据灰度值是否大于当前阈值将图片灰度分为两类，计算这两类的类间方差g，当类间方差取得最大值时，所对应的T值即为最佳阈值。

4.根据权利要求1所述的半导体器件引脚尺寸检测方法，其特征在于，所述在每个引脚的ROI区域内根据引脚边缘均值拟合得到引脚顶点，由引脚顶点到基准直线作垂线得到引脚长度，具体为：

在预先设置于半导体器件边缘的四个ROI区域内，由Sobel算子提取目标边缘并计算边缘均值，得四个边缘拟合均值a₁、a₂、a₃、a₄，使用最小二乘法对边缘直线进行拟合，得到基准直线L；

在每个半导体器件引脚预先设置的ROI区域内，根据引脚边缘计算均值点(x_i,y_i)，该引脚边缘均值点即作为引脚顶点P_i；

由引脚顶点P_i向基准直线L作垂线，记垂足为F_i，则线段P_iF_i的长度即为半导体器件引脚的长度。

5.根据权利要求4所述的半导体器件引脚尺寸检测方法，其特征在于，在计算均值点纵坐标y_i时舍弃一个最大值与一个最小值。

6.根据权利要求1-5任一项所述的半导体器件引脚尺寸检测方法，其特征在于，所述根据校正后的目标图像获取引脚区域正向图，得到引脚轮廓，具体为：

由基准直线L的偏移角度θ对图像进行角度校正，保证半导体器件的引脚竖直向上，得到校正后的目标图像I′；

采用引脚区域ROI模板对校正后的目标图像进行切片，得到引脚区域图像I₀；

对引脚区域图像I₀进行先腐蚀后膨胀的形态学处理后得到连通区域；

对连通区域进行轮廓扫描，得到引脚轮廓C，C中的子元素是每个引脚的轮廓。

7.根据权利要求6所述的半导体器件引脚尺寸检测方法，其特征在于，所述获得引脚轮廓中每个子轮廓的质心，并以质心坐标替代引脚顶点坐标，根据质心间距获得引脚间距，具体为：

获得引脚轮廓C中所有子轮廓的零阶矩M₀₀以及一阶矩M₀₁和M₁₀，得到子轮廓的质心坐标(x_c,y_c)；

用相邻引脚轮廓的质心横坐标相减，得引脚间距d_i。