[发明专利]等离子体处理装置及使用该装置的等离子体处理方法

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，包括：

腔室，具有产生等离子体的处理空间；以及

等离子体产生单元，用于将所述处理空间内的气体激发为等离子体状态，

其中，所述等离子体产生单元包括：

第一电源，提供用于产生所述等离子体的电力；

线圈部，与所述第一电源连接；

第一并联电容器，连接在所述线圈部的第一节点与接地电源之间；以及

第二并联电容器，连接在所述线圈部的不同于所述第一节点的第二节点与所述接地电源之间。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，

所述等离子体处理装置通过控制所述第一并联电容器的电容值和所述第二并联电容器的电容值来调节所述线圈部的电流。

3.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，

所述等离子体处理装置通过调节所述线圈部的电流来控制所述等离子体的密度。

4.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，

所述第一并联电容器和所述第二并联电容器是可变电容器。

5.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，

所述线圈部以所述第一节点为基准划分为串联连接的第一部分线圈部和第二部分线圈部，以及

所述等离子体处理装置通过控制所述第一并联电容器的电容值来调节所述第一部分线圈部的电流和所述第二部分线圈部的电流。

6.根据权利要求5所述的等离子体处理装置，其中，

所述线圈部还包括：第三部分线圈部，所述第三部分线圈部隔着所述第二节点与所述第二部分线圈部串联连接，以及

所述等离子体处理装置通过控制所述第二并联电容器的电容值来调节所述第二部分线圈部的电流和所述第三部分线圈部的电流。

7.根据权利要求6所述的等离子体处理装置，其中，

所述等离子体产生单元还包括：第三并联电容器，连接在所述线圈部的不同于所述第二节点的第三节点与所述接地电源之间，

所述线圈部还包括：第四部分线圈部，所述第四部分线圈部隔着所述第三节点与所述第三部分线圈部串联连接，以及

所述等离子体处理装置通过控制所述第三并联电容器的电容值来调节所述第三部分线圈部的电流和所述第四部分线圈部的电流。

8.根据权利要求7所述的等离子体处理装置，其中，

所述等离子体产生单元还包括：第四电容器，连接在不同于所述第三节点的第四节点与所述接地电源之间，以及

所述等离子体处理装置通过控制所述第四电容器的电容值来调节所述线圈部的电压。

9.根据权利要求7所述的等离子体处理装置，其中，

所述线圈部包括：

第一线圈部，其一端与所述第一电源连接，并且划分为第一区域和第二区域；以及

第二线圈部，布置在所述第一线圈部的下部，并且与所述第一线圈部的另一端连接且划分为第三区域和第四区域，

其中，所述第一区域和所述第三区域分别构成所述第一线圈部的一侧和所述第二线圈部的一侧并且彼此对应，

所述第二区域和所述第四区域分别构成所述第一线圈部的另一侧和所述第二线圈部的另一侧并且彼此对应，其中，所述第一线圈部的所述另一侧与所述第一线圈部的所述一侧相对，且所述第二线圈部的所述另一侧与所述第二线圈部的所述一侧相对，以及

所述等离子体处理装置通过控制所述第一并联电容器的电容值和所述第三并联电容器的电容值来调节所述第一区域的电流和第四区域的电流。