[发明专利]一种纳米银修饰的MOF泡沫镍基底、制备方法及其应用

权利要求书

1.一种纳米银修饰的MOF泡沫镍基底的制备方法，其特征在于，采用电化学沉积法，依次将钴镍前驱体和纳米银修饰在预处理泡沫镍上，制得纳米银修饰的MOF泡沫镍基底。

2.如权利要求1所述的纳米银修饰的MOF泡沫镍基底的制备方法，其特征在于，该方法具体包括如下步骤：

步骤一，进行预处理；

依次采用稀盐酸、无水乙醇和去离子水对泡沫镍进行预处理，然后清洁泡沫镍表面，制得预处理泡沫镍；

步骤二，制备钴镍前驱体；

将硝酸钴、硝酸镍和HmIM加入至甲醇水溶液中，混合均匀后制得钴镍前驱体；

步骤三，制备MOF泡沫镍基底；

以步骤一制得的预处理泡沫镍作为工作电极，以铂丝电极作为对电极，以饱和甘汞电极作为参比电极，以步骤二制得的钴镍前驱体作为电化学沉积的电解质溶液，进行第一次电化学沉积，制得MOF泡沫镍基底；所述的第一次电化学沉积的条件为：沉积电压为-0.3～-1.0V，沉积时间为200～500s；

步骤四，进行纳米银修饰；

以步骤三制得的MOF泡沫镍基底作为工作电极，以铂丝电极作为对电极，以Ag/AgCl电极作为参比电极，在硝酸银溶液中进行第二次电化学沉积，制得纳米银修饰的MOF泡沫镍基底；所述的第二次电化学沉积的条件为：沉积电压为-0.1～-0.3V，沉积时间为5～15min。

3.如权利要求2所述的纳米银修饰的MOF泡沫镍基底的制备方法，其特征在于，步骤二中，所述的甲醇水溶液中甲醇和水的质量分数之比为19:1。

4.如权利要求2所述的纳米银修饰的MOF泡沫镍基底的制备方法，其特征在于，步骤二中，所述的钴镍前驱体中硝酸钴、硝酸镍和HmIM的摩尔量之比为1:1:8。

5.如权利要求2所述的纳米银修饰的MOF泡沫镍基底的制备方法，其特征在于，步骤四中，硝酸银溶液的摩尔浓度为0.05mol L^-1。

6.如权利要求1至5任一项所述的纳米银修饰的MOF泡沫镍基底的制备方法制得的纳米银修饰的MOF泡沫镍基底用于四环素检测中的应用。

7.如权利要求6所述的应用，其特征在于，该应用的方法包括如下步骤：

步骤一，建立拉曼强度与四环素浓度的关系式；

将纳米银修饰的MOF泡沫镍基底，分别浸入到一系列的四环素标准溶液中，进行拉曼光谱扫描后测得1313cm^-1处的拉曼强度，根据四环素标准溶液的摩尔浓度的对数与1313cm^-1处的拉曼强度绘制散点图，经线性拟合后获得拉曼强度与四环素浓度对数的线性方程，如式Ⅳ所示：

y＝365.21x+3827.39 式Ⅳ；

式中：

y表示四环素标准溶液的在1313cm^-1处的拉曼强度；

x表示四环素标准溶液的摩尔浓度的对数；

步骤二，进行检测；

将纳米银修饰的MOF泡沫镍基底，浸入到待测试样品中，进行拉曼光谱扫描后测得1313cm^-1处的拉曼强度，将待测试样品的拉曼强度代入式Ⅳ中，计算并获得待测试样品中四环素的摩尔浓度。

8.如权利要求7所述的应用，其特征在于，步骤二中，拉曼光谱扫描的条件为：采用785nm的激发波长，激发10s。