[发明专利]光刻设备

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

投影系统，所述投影系统被配置为将图案化的辐射束投影到衬底上；所述投影系统包括多个光学元件；

传感器框架；

第一位置测量系统，所述第一位置测量系统被配置为测量所述多个光学元件相对于所述传感器框架的位置；和

至少一个致动器，所述至少一个致动器被配置成在所述传感器框架上施加基本上垂直地定向的力，

其中所述传感器框架包括：

N个子框架和耦合N个子框架的耦合系统，N是大于1的整数，以及

第二位置测量系统，所述第二位置测量系统被配置为确定所述N个子框架的相对位置，且

其中所述传感器框架由M个振动隔离器支撑，M是整数且1≤M＜3，所述M个振动隔离器和所述基本上垂直地定向的力在不同的、非共线的部位处支撑所述传感器框架。

2.根据权利要求1所述的光刻设备，还包括基部框架和力框架，其中所述力框架被配置成支撑所述多个光学元件，并且其中所述力框架借助于多个振动隔离器支撑在所述基部框架上。

3.根据权利要求2所述的光刻设备，其中，所述传感器框架由所述力框架借助于多个振动隔离器支撑。

4.根据权利要求2所述的光刻设备，其中，所述传感器框架由所述基部框架借助于多个振动隔离器支撑。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的光刻设备，其中，所述耦合系统包括弹簧-阻尼器系统。

6.根据权利要求5所述的光刻设备，其中，所述弹簧-阻尼器系统包括有源阻尼器。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的光刻设备，其中，所述第二位置测量系统包括基于编码器的测量系统。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的光刻设备，还包括：

-衬底台，所述衬底台被配置为保持衬底；

-定位装置，所述定位装置被配置为定位所述衬底台；和

-控制单元，所述控制单元被配置为：

-接收所述第一位置测量系统的第一位置测量信号；

-接收所述第二位置测量系统的第二位置测量信号；

-基于所述第一位置测量信号和所述第二位置测量信号确定所述多个光学元件的位置；以及

-基于所确定的位置产生用于所述定位装置的控制信号。

9.根据权利要求2所述的光刻设备，还包括：

-致动器组件，所述致动器组件被配置为定位所述多个光学元件中的至少一个光学元件；

-控制单元，所述控制单元被配置为：

-接收所述第一位置测量系统的第一位置测量信号；

-接收所述第二位置测量系统的第二位置测量信号；

-基于所述第一位置测量信号和所述第二位置测量信号确定所述多个光学元件的位置；以及

-基于所确定的位置产生用于定位装置的控制信号。

10.一种光刻设备，包括：

投影系统，所述投影系统被配置为将图案化的辐射束投影到衬底上；所述投影系统包括多个光学元件；

传感器框架；

至少一个致动器，所述至少一个致动器被配置成在所述传感器框架上施加基本上垂直地定向的力；以及

第一位置测量系统，所述第一位置测量系统被配置为测量所述多个光学元件相对于所述传感器框架的位置，

其中所述传感器框架由M个振动隔离器支撑，M是整数且1≤M＜3，所述M个振动隔离器和所述基本上垂直地定向的力在不同的、非共线的部位处支撑所述传感器框架。

11.根据权利要求10所述的光刻设备，其中，M＝2。

12.根据权利要求10或11所述的光刻设备，其中，所述振动隔离器被定位成基本上保持所述传感器框架平衡。