[发明专利]晶圆生产工艺在审

专利信息
申请号: 202210999011.X 申请日: 2022-08-19
公开(公告)号: CN115415896A 公开(公告)日: 2022-12-02
发明(设计)人: 潘芳琳 申请(专利权)人: 潘芳琳
主分类号: B24B19/22 分类号: B24B19/22;B24B29/02;B24B37/04;B24D3/14;B24D5/00;B28D1/22;C09G1/02;H01L21/02
代理公司: 嘉兴名谨专利代理事务所(普通合伙) 33480 代理人: 唐述伟
地址: 314000 浙江省嘉*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 生产工艺
【说明书】:

发明公开了晶圆生产工艺,晶圆生产工艺方法包括如下步骤;选择玻璃毛坯,将玻璃毛坯通过CNC玻璃开料机进行切割,将切割好的玻璃毛坯通过磨轮来对其进行打磨,将打磨好的玻璃毛坯根据厚度来选择研磨还是抛光,将厚度不达标的玻璃毛坯来进行研磨,使玻璃毛坯达到符合标准的厚度,将厚度符合标准的玻璃毛坯进行抛光处理,将抛光处理好的玻璃毛坯进行清洗,将清洗好的玻璃毛坯进行检验,检测玻璃毛坯是否合格,将检测合格的玻璃毛坯进行包浆处理,使其形成晶圆。本发明通过将磨轮的凹槽直角改成半圆弧形状,避免玻璃毛坯在打磨时,玻璃毛坯与磨轮发生碰撞,从而造成玻璃毛坯发生破裂损坏,从而造成玻璃毛坯无法使用。

技术领域

本发明涉及晶圆生产技术领域,具体为晶圆生产工艺。

背景技术

晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片,其原始材料是硅。高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种,然后慢慢拉出,形成圆柱形的单晶硅。硅晶棒在经过研磨,抛光,切片后,形成硅晶圆片,也就是晶圆,晶圆的主要加工方式为片加工和批加工,即同时加工1片或多片晶圆。随着半导体特征尺寸越来越小,加工及测量设备越来越先进,使得晶圆加工出现了新的数据特点;

玻璃晶圆是具有光传输效率高的特点而被广泛应用于半导体、光学等行业的生产制造过程中。具体应用方向包括微电机元件、CMOS、CCD传感器、微波电路、物联网阵列以及各类光学、激光器件的加工制造,玻璃晶圆依照尺寸分为2寸,4寸,6寸,8寸,12寸,目前玻璃晶圆在众多高新技术领域中应用广泛,国内外的需求量也快速增长,

目前市场上大多数晶圆生产工艺,在对玻璃毛坯进行生产时,容易造成晶圆在辊轮的过程中,造成晶圆厚度不同,从而影响晶圆在生产时的合格率,同时在对玻璃毛坯进行研磨时,容易造成玻璃毛坯与磨轮发生碰撞,从而造成玻璃毛坯发生损坏,因此需要发明一种晶圆生产工艺。

发明内容

本发明的目的在于提供晶圆生产工艺,以解决上述背景技术中提出的需在对玻璃毛坯进行生产时,容易造成晶圆在辊轮的过程中,造成晶圆厚度不同,从而影响晶圆生产的效果,同时在对玻璃毛坯进行研磨时,容易造成玻璃毛坯与磨轮发生碰撞,从而造成玻璃毛坯发生损坏,,因此需要发明一种晶圆生产工艺的相关问题。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:晶圆生产工艺方法包括如下步骤;

步骤一;选择玻璃毛坯;

步骤二;将玻璃毛坯通过CNC玻璃开料机进行切割;

步骤三;将切割好的玻璃毛坯通过磨轮来对其进行打磨;

步骤四;将打磨好的玻璃毛坯根据厚度来选择研磨还是抛光;

步骤五;将厚度不达标的玻璃毛坯来进行研磨,使玻璃毛坯达到符合标准的厚度;

步骤六;将厚度符合标准的玻璃毛坯进行抛光处理;

步骤七;将抛光处理好的玻璃毛坯进行清洗;

步骤八;将清洗好的玻璃毛坯进行检验,检测玻璃毛坯是否合格;

步骤九;将检测合格的玻璃毛坯进行包浆处理,使其形成晶圆;

步骤十;将晶圆进行包装处理。

优选的,所述玻璃毛坯的选择面积为650*650、厚度为0.4cm-0.7cm的玻璃毛坯。

优选的,所述玻璃毛坯通过CNC外形加工机来对其进行打磨,所述玻璃毛坯打磨的粗糙度不低于在80度,所述CNC外形加工机在对玻璃毛坯进行打磨时需要加压,加压在200公斤-240公斤左右。

优选的,所述玻璃毛坯通过16B双面研磨机来对厚度进行研磨,所述玻璃毛坯在进行研磨的过程中需要加微粉;氯碳化硅粉。

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