[发明专利]内埋式元器件的硬质封装结构及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202211031334.6 申请日: 2022-08-26
公开(公告)号: CN115361779A 公开(公告)日: 2022-11-18
发明(设计)人: 王强;吴婷婷;朱繁松;杨金生;齐学政 申请(专利权)人: 宁波华远电子科技有限公司
主分类号: H05K1/18 分类号: H05K1/18;H05K3/46;H05K3/44
代理公司: 宁波诚源专利事务所有限公司 33102 代理人: 袁忠卫;付华
地址: 315403 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 内埋式 元器件 硬质 封装 结构 及其 制备 方法
【说明书】:

一种内埋式元器件的硬质封装结构,包括开有第一窗口的胶粘层;贴设于胶粘层的上表面的第一硬质基板,开有与第一窗口共同形成容置腔的第二窗口,其上表面或双面设有线路;第二硬质基板,贴设于胶粘层的下表面、其单面或双面设有线路,当两块硬质基板的双面设有线路时,各硬质基板内部填充有层间导体,第一硬质基板和第二硬质基板电性连接;元器件,键合在第二硬质基板上;绝缘层,其材质为流动性树脂,绝缘层填充于容置腔中、并包覆元器件,绝缘层内填充有层间导体,使该硬质封装结构不容易损伤元器件、且更薄。本发明还涉及一种上述内埋式元器件的硬质封装结构的制备方法。

技术领域

本发明涉及线路板,尤其是涉及一种内埋式元器件的硬质封装结构,还涉及前述内埋式元器件的硬质封装结构的制备方法。

背景技术

半导体封装技术对于发挥功率半导体器件的功能至关重要。良好电隔离和热管理,最小的寄生电容,极少的分布电感,都要通过精心设计封装结构来实现。半导体封装技术领域中常用到封装基板,封装基板是Substrate(简称SUB),即印刷线路板中的术语。基板可为芯片提供电连接、保护、支撑、散热、组装等功效,以实现多引脚化,缩小封装产品体积、改善电性能及散热性、超高密度或多芯片模块化的目的。目前,封装基板正朝着高密度化的方向发展,例如将元件内埋于多层线路板中。

专利号为ZL201210586713.1(授权公告号为CN103904062A)的中国发明专利公开了一种内埋式电子元件封装结构,其包括核心层、电子元件、第一介电层、第二介电层。该核心层设有贯通的容置槽,电子元件位于容置槽内。第一介电层及第二介电层分别由上及下压合于电子元件及核心层上,以将电子元件及核心层包覆于第一介电层及第二介电层内。其中,第一介电层和第二介电层的材质例如为半固化树脂(prepreg,PP)。

上述内埋式电子元件封装结构存在以下不足:①由于常规的半固化树脂PP为“树脂+玻纤布+填料”的结构,在封装结构压合时玻纤布会挤压到元器件,导致元器件损伤或损坏,而且,半固化树脂PP填充时容易在元器件周围形成缝隙,发生填充空洞,从而造成封装结构产品可靠性失效;②该内埋式电子元件封装结构有一层固化板和两层半固化板,导致封装结构较厚;③由于半固化树脂PP固化前呈熔融状态,使该封装结构在组装时需要先用支撑件和可剥离膜贴装元器件,当元器件在固化后的半固化树脂PP上固定住以后再移除支撑件和可剥离膜,使该封装结构的制备工艺流程长,影响封装结构的加工效率。

发明内容

本发明所要解决的第一个技术问题是针对上述的技术现状而提供一种不容易损伤元器件、且更薄的内埋式元器件的硬质封装结构。

本发明所要解决的第二个技术问题是针对上述的技术现状而提供一种上述内埋式元器件的硬质封装结构的制备方法,工艺流程更短从而加工效率更高。

本发明所要解决的第三个技术问题是针对上述的技术现状而提供一种上述内埋式元器件的硬质封装结构的制备方法,能够有效防止元器件周围形成缝隙从而避免造成封装结构产品可靠性失效。

本发明解决上述的第一个技术问题所采用的技术方案为:一种内埋式元器件的硬质封装结构,其特征在于:包括

胶粘层,其上开有第一窗口;

第一硬质基板,贴设于所述胶粘层的上表面、且开有与所述第一窗口对应的第二窗口,该第二窗口与第一窗口共同形成容置腔,所述第一硬质基板的上表面设有线路,或,所述第一硬质基板的双面均设有线路;

第二硬质基板,贴设于所述胶粘层的下表面,所述第二硬质基板的单面或双面设有线路,且当所述第一硬质基板和/或第二硬质基板的双面设有线路时,所述第一硬质基板的双面路线之间和/或第二硬质基板的双面路线之间电导通,此外,所述第一硬质基板和第二硬质基板之间电导通;

元器件,贴装在所述第二硬质基板的上表面、并位于所述容置腔中;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁波华远电子科技有限公司,未经宁波华远电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211031334.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top