[发明专利]基片位置异常的检测方法与检测装置

说明书

本公开实施例提供了一种基片位置异常的检测方法与检测装置，该检测方法包括：获取基片分别位于机械手和转架上时的标准图像；获取基片重新分别位于机械手或转架上时的检测图像；判断所述标准图像中预设特征的位置与所述检测图像中所述预设特征的位置之间偏差是否在预设范围内；若不在所述预设范围内，则判断所述基片重新位于机械手或转架上的位置异常。本公开提供的基片位置异常的检测方法，能够通过视觉检测方式识别基片位置是否异常。

技术领域

本公开涉及镀膜设备技术领域，具体而言，涉及一种基片位置异常的检测方法与基片位置异常的检测装置。

背景技术

常见的镀膜机具有自动上下基片功能，通常包括装载腔、传输腔和工艺腔。传输腔有一真空机械手，负责将装载腔中的基片搬运到工艺腔，或者从工艺腔搬运到装载腔。由于装载腔、传输腔和工艺腔工作时均为真空状态，而用于驱动机械手运动和转架旋转的伺服电机不能在真空下工作，所以在传输腔和工艺腔上分别设置磁流体进行密封。

工艺腔上的转架伺服电机通过联轴器和磁流体一端连接，磁流体另一端也通过联轴器和工件转架连接。传输腔上的机械手驱动电机通过联轴器和另一磁流体一端连接，磁流体的另一端也是通过联轴器和机械手取片机构连接。

在系统运行过程中，只要有一个联轴器打滑，都会造成运动部件位置不准确，从而造成基片位置异常。

需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本公开实施例的目的在于提供一种基片手位置异常的检测方法与检测装置，能够通过视觉检测方式识别机基片的状态是否异常。

本公开的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然，或部分地通过本公开的实践而习得。

根据本公开实施例的一个方面，提供了一种基片位置异常的检测方法，该检测方法包括：

获取基片分别位于机械手和转架上时的标准图像；

获取基片重新分别位于机械手或转架上时的检测图像；

判断所述标准图像中预设特征的位置与所述检测图像中所述预设特征的位置之间偏差是否在预设范围内；

若不在所述预设范围内，则判断所述基片重新位于机械手或转架上的位置异常。

在本公开的一种示例性实施例中，所述检测方法还包括：

若在所述预设范围内，则判断所述基片重新位于机械手或转架上的位置正常。

在本公开的一种示例性实施例中，所述预设特征为多个特征点，包括位于所述基片上的结构特征、位于机械手上的结构特征和位于转架上的结构特征。

在本公开的一种示例性实施例中，所述预设特征为线特征。

在本公开的一种示例性实施例中，所述机械手上设有多个第一特征；当在所述检测图像未识别出所述第一特征，则判断所述基片在所述机械手上悬挂到位；当在所述检测图像识别出所述多个第一特征，则判断所述机械手上未挂所述基片；当在所述检测图像识别出部分所述第一特征，则判断所述基片在所述机械手上未挂到位；

所述转架上设有多个第二特征；当在所述检测图像未识别出所述第二特征，则判断所述基片在所述机械手上悬挂到位；当在所述检测图像识别出所述多个第二特征，则判断所述转架上未挂所述基片；当在所述检测图像识别出部分所述第二特征，则判断所述基片在所述转架上未悬挂到位。

在本公开的一种示例性实施例中，所述标准图像与所述检测图像的边界位置一致。

根据本公开实施例的另一个方面，提供了一种基片位置异常的检测装置，该检测装置包括：