[发明专利]一种遮光罩分区温控系统在审
申请号: | 202211049289.7 | 申请日: | 2022-08-30 |
公开(公告)号: | CN115357068A | 公开(公告)日: | 2022-11-18 |
发明(设计)人: | 翁警涛;徐华勒;汤龙舟;徐炳;杨川;姜晓源;何吉贤 | 申请(专利权)人: | 杭州航验环境技术有限公司 |
主分类号: | G05D23/20 | 分类号: | G05D23/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 310000 浙江省杭州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 遮光 分区 温控 系统 | ||
本发明公开的一种遮光罩分区温控系统,其特征在于:至少包括若干个遮光罩温控子系统以及显控柜,每个遮光罩温控子系统都至少具备遮光罩单元、制冷单元、加热单元以及传感器单元,并且制冷单元、加热单元以及传感器单元都直接紧贴在遮光罩单元上;若干个遮光罩单元相互联接成为遮光罩组合体,并紧箍在光学组件外表面;以此,通过显控柜的控制,每个遮光罩温控子系统都在制冷单元与加热单元的联合作用下独立运行,有效应对光学组件各区位温度差异,使光学组件在精确稳定的温度下工作。
技术领域
本发明属于空间光学系统技术领域,具体涉及一种遮光罩分区温控系统。
背景技术
空间光学系统通常以其支撑为主结构,主镜、准直镜、镜筒或桁架结构直接暴露在复杂多变的空间热环境中,这就不可避免地会产生较大的温度变化。高分辨率空间相机通常要求达到或接近衍射极限,细微扰动都将对相机成像质量产生显著影响,对温度变化非常敏感。一方面,主结构和光学元件的温度波动和温度梯度使相机光学系统的光学表面相对位置发生变化,光学主轴发生倾斜;另一方面,光学元件内部的温度波动和温度梯度使光学元件的表面面形发生变化,透镜内的温度变化还将引起折射率的改变。因此,如何在空间真空热环境条件下实现高精度高稳定性的温度控制是保证相机的成像质量的关键所在。当前,较为有效的措施就是在光学元件外部加装遮光罩,比如:一、专利号为2017111571414所述的一种星敏感器用组合式隔热型遮光罩结构,即是通过罩体和支座的组合,优化了星敏感器遮光罩的结构,抑制了空间轨道杂散光和空间轨道热流;二、专利号为2013105964507公开了一种可展开遮光罩,包括流体回路管路、翅片、隔热组件和温控系统,具备流体控温功能,解决了目前大口径光学遥感器可展开遮光罩的控温问题。前述两个专利,前者不涉及控温问题,后者虽然包括温控系统,但对于精确控温问题,仍不能有效解决。因此,提供一种遮光罩分区温控系统,该系统能够对遮光罩工作部分进行加温、制冷以及工作状态监控,使遮光罩内部的光学元件在精确稳定的温度下工作,仍然是非常有必要的。
发明内容
本发明的目的是提供一种遮光罩分区温控系统,该系统能够对遮光罩工作部分进行加温、制冷以及工作状态监控,使遮光罩内部的光学组件在精确稳定的温度下工作。
为实现上述目的,本发明的技术方案是:一种遮光罩分区温控系统,其特征在于:至少包括若干个遮光罩温控子系统以及显控柜,每个遮光罩温控子系统都至少具备遮光罩单元、制冷单元、加热单元以及传感器单元,并且制冷单元、加热单元以及传感器单元都直接紧贴在遮光罩单元上;若干个遮光罩单元相互联接成为遮光罩组合体,并紧箍在光学组件外表面;以此,通过显控柜的控制,每个遮光罩温控子系统都在制冷单元与加热单元的联合作用下独立运行,有效应对光学组件各区位温度差异,使光学组件在精确稳定的温度下工作。
作为优选,所述遮光罩温控子系统还具备护罩,所述护罩可拆卸的固定在遮光罩单元上,并在护罩与遮光罩单元之间形成间隙,便于走线,使得遮光罩分区温控系统整体更加美观、整洁。另外,护罩作为保护罩,将遮光罩单元、制冷单元、加热单元以及传感器单元与环境隔开,降低环境温度对温控子系统的影响,便于控温的稳定性。
作为优选,所述遮光罩分区温控系统还具备导热垫,其填充在遮光罩组合体与光学组件之间,提高热传导效率;所述导热垫的材料为硅胶。
作为优选,所述遮光罩温控子系统的个数为4个;所述遮光罩组合体的形状为圆筒型,其由4个半圆筒型遮光罩单元组合而成。
作为优选,所述遮光罩单元的材料为铝合金,其外周面上布置有若干个凸台。
作为优选,所述制冷单元由若干个半导体制冷器组成,半导体制冷器冷端紧贴在凸台上。半导体制冷是在珀尔贴效应基础上发展起来的制冷技术,其利用半导体的热-电效应制取冷量,又称热电制冷器,是比较成熟的现有技术,不再赘述。
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