[发明专利]光掩模版的生产管理系统、供应链管理方法以及电子设备

权利要求书

1.一种光掩模版的生产管理系统，用于光掩模版的生产管理，其特征在于，所述光掩模版的生产管理系统包括：

进料管理单元，用于获得石英衬底参数信息，并将石英衬底参数信息与衬底标准值进行对比，得到第一检测结果；

掩模基版管理单元，所述掩模基版通过在所述石英衬底上沉积多层薄膜得到，所述掩模基版管理单元包括与各层薄膜一一对应的薄膜检测模块，所述薄膜检测模块用于获得薄膜参数信息，并将薄膜参数信息与薄膜标准参数值进行对比，得到第二检测结果；

光掩模版管理单元，所述光掩模版由所述掩模基版经过光刻工艺、刻蚀工艺处理得到，所述光掩模版管理单元用于获得光刻工艺、刻蚀工艺参数，并将光刻工艺参数与光刻工艺标准值、刻蚀工艺参数与刻蚀工艺标准值分别进行对比，得到第三检测结果；

决策单元，根据所述第一检测结果、所述第二检测结果以及所述第三检测结果决定是否停机检修。

2.根据权利要求1所述的光掩模版的生产管理系统，所述石英衬底参数信息包括质量、均匀性、透射率、透光率和平坦度中的一种或几种的组合。

3.根据权利要求1所述的光掩模版的生产管理系统，其特征在于，所述多层薄膜包括遮光层、相转移层、吸收层以及反射层中的一种或多种的组合。

4.根据权利要求1所述的光掩模版的生产管理系统，其特征在于，所述多层薄膜包括遮光层、相转移层、吸收层以及反射层，所述薄膜检测模块包括：

第一薄膜检测模块，用于获得所述遮光层的组分信息、厚度信息、以及缺陷信息；

第二薄膜检测模块，用于获得所述相转移层的组分信息、厚度信息、以及缺陷信息；

第三薄膜检测模块，用于获得所述吸收层的光吸收率；

第四薄膜检测模块，用于获得所述反射层的光反射率。

5.根据权利要求1所述的光掩模版的生产管理系统，其特征在于，所述刻蚀工艺参数包括刻蚀速率、刻蚀后薄膜的光吸收率、光反射率、透光率或光线相移量。

6.根据权利要求1所述的光掩模版的生产管理系统，其特征在于，所述光掩模版的生产管理系统还包括生产设备管理单元，所述生产设备管理单元用于获取各生产设备的工艺参数，并将所述工艺参数与标准工艺参数值进行对比，得到第四检测结果；所述决策单元还根据所述第四检测结果决定是否停机检修；所述生产设备包括用于沉积所述多层薄膜的真空溅射设备、用于实施曝光成像的光刻设备或用于实施所述刻蚀工艺的刻蚀设备。

7.根据权利要求6所述的光掩模版的生产管理系统，其特征在于，所述工艺参数包括所述生产设备使用的去离子水、气体的纯度、压力，以及所述真空设备的真空度。

8.根据权利要求1所述的光掩模版的生产管理系统，其特征在于，所述光掩模版的生产管理系统还包括贴膜管理单元，所述贴膜管理单元用于检测所述光掩模版贴保护膜后的总透光率，并将总透光率与标准总透光率数值进行对比，得到第五检测结果；所述决策单元还根据所述第五检测结果决定是否停机检修。

9.一种光掩模版的供应链管理方法，其特征在于，应用于权利要求1～8中任一项所述的生产管理系统，所述供应链管理方法包括：

获取各生产耗材的原料信息；

获取生产设备的零件信息；

根据所述原料信息和所述零件信息的变化决定是否停机检修。

10.根据权利要求9所述的供应链管理方法，其特征在于，所述原料信息和所述零件信息包括供应商信息、生产批次信息或出产日期。

11.一种电子设备，包括存储器和处理器，其特征在于，所述处理器用于执行所述存储器存储的计算机程序，以使所述电子设备执行如权利要求9所述的供应链管理方法的步骤。