[发明专利]不带氦气源的真空氦漏孔检测装置及方法

权利要求书

1.一种不带氦气源的真空氦漏孔检测装置，其特征在于：

包括第一标准真空氦漏孔(5)、第二标准真空氦漏孔(6)、被校真空氦漏孔(7)、压力计、机械泵(12)、氦气瓶(10)；

其中，第一标准真空氦漏孔(5)漏率值小于被校真空氦漏孔(7)，第二标准真空氦漏孔(6)的漏率值大于被校真空氦漏孔(7)；

第一标准真空氦漏孔(5)、第二标准真空氦漏孔(6)、被校真空氦漏孔(7)并联接入氦质谱检测仪(1)，且各自前端设置阀门；

所述被校真空氦漏孔(7)后端设置所述数字压力计(11)，并分两路分别与机械泵(12)和氦气瓶(10)连接；

所述机械泵(12)和氦气瓶(10)各自前端设有阀门。

2.如权利要求1所述的不带氦气源的真空氦漏孔检测装置，其特征在于：所述阀门均为气动阀门。

3.如权利要求1所述的不带氦气源的真空氦漏孔检测装置，其特征在于：所述压力计为数字压力计(11)。

4.如权利要求1所述的不带氦气源的真空氦漏孔检测装置，其特征在于：第一标准真空氦漏孔(5)漏率值小于且接近被校真空氦漏孔(7)，第二标准真空氦漏孔(6)的漏率值大于且接近被校真空氦漏孔(7)。

5.一种不带氦气源的真空氦漏孔检测方法，其特征在于：采用权利要求1-4中任意一项所述的真空氦漏孔检测装置；

第一标准真空氦漏孔(5)漏率值Q_{标准漏孔漏率值1}小于被校漏孔漏率值且接近被校漏孔漏率值，第二标准真空氦漏孔(6)漏率值Q_{标准漏孔漏率值2}大于被校漏孔漏率值且接近被校漏孔漏率值，分别接入氦质谱检漏仪，氦质谱检漏仪显示值分别为Q_{标准漏孔示值1}和Q_{标准漏孔示值2}，

则被校漏孔的漏率值为两次测量的平均值，即：

6.如权利要求5所述的不带氦气源的真空氦漏孔检测方法，其特征在于：包括以下步骤：

S1、将第一标准真空氦漏孔(5)、第二标准真空氦漏孔(6)、被校真空氦漏孔(7)与氦质谱检漏仪放在同一环境下不低于24小时，氦质谱检漏仪启动后先预热设定时间；

S2、将被校真空氦漏孔(7)接入氦质谱检漏仪，准备一个四通气管，一端连接被校真空氦漏孔(7)，一端连接数字压力计(11)，一端通过第一气动阀(9)连接机械泵(12)，一端通过针阀(8)连接氦气源；

S3、关闭被校真空氦漏孔(7)前端的第二气动阀门(4)，启动氦质谱检漏仪测量本底，本底小于1×10^-12Pa﹒m³/s；

S4、启动机械泵(12)，打开第一气动阀门(9)，排空四通气管内部气体；关闭第一气动阀门(9)，调节针阀(8)往四通内放入少量氦气，然后关闭针阀(8)，打开第一气动阀门(9)，用机械泵(12)再次排空气管内部气体；

S5、关闭第一气动阀门(9)，调节针阀(8)使气管内压力为漏孔标签上标注压力或者设定压力，压力数值由数字压力计(11)显示；

S6、打开第二气动阀门(4)，待氦质谱检漏仪显示值稳定时记录被校真空氦漏孔的漏率值Q_{被校漏孔示值}；

S7、根据Q_{被校漏孔示值}选取一只漏率值大于Q_{被校漏孔示值}且接近Q_{被校漏孔示值}的第二标准漏孔(6)，和一只漏率值小于Q_{被校漏孔示值}且接近Q_{被校漏孔示值}的第一标准漏孔(5)，分别接入氦质谱检漏仪；

S8、关闭第一标准真空氦漏孔(5)前端的第三气动阀门(2)，待氦质谱检漏仪测量本底小于1×10^-12Pa﹒m³/s时，打开第三气动阀门(2)，待氦质谱检漏仪显示值稳定时记录第一标准真空氦漏孔(5)的漏率值Q_{标准漏孔示值1}；

S9、关闭第二标准真空氦漏孔(6)前端的第四气动阀门(3)，待氦质谱检漏仪测量本底小于1×10^-12Pa﹒m³/s时，打开第四气动阀门(3)，待氦质谱检漏仪显示值稳定时记录第二标准真空氦漏孔(6)的漏率值Q_{标准漏孔示值2}；

S10、被校漏孔实际值为