[发明专利]不带氦气源的真空氦漏孔检测装置及方法

说明书

本发明涉及一种不带氦气源的真空氦漏孔检测装置，包括第一标准真空氦漏孔、第二标准真空氦漏孔、被校真空氦漏孔、压力计、机械泵、氦气瓶；其中，第一标准真空氦漏孔漏率值小于被校真空氦漏孔，第二标准真空氦漏孔的漏率值大于被校真空氦漏孔；第一标准真空氦漏孔、第二标准真空氦漏孔、被校真空氦漏孔并联接入氦质谱检测仪，且各自前端设置阀门；所述被校真空氦漏孔后端设置所述数字压力计，并分两路分别与机械泵和氦气瓶连接；所述机械泵和氦气瓶各自前端设有阀门。

技术领域

本发明涉及一种真空氦漏孔检测装置，尤其涉及一种不带氦气源的真空氦漏孔检测装置及方法。

背景技术

真空氦漏孔是指使用氦气作为示踪气体，出口压力小于1kPa条件下校准和使用的漏孔。真空氦漏孔分为带氦气源的漏孔和不带氦气源的漏孔两种。真空氦漏孔校准方法分为流量计法、定量气体法和相对比较法，其中相对比较法操作最为方便。相对比较法为选择与被校漏孔漏率值在同一数量级或漏率相近的标准漏孔，将两只漏孔同时安装于检漏仪上，利用检漏仪将标准漏孔的漏率值与被校漏孔的漏率值进行比较，从而得出被校真空氦漏孔的漏率值。若标准漏孔漏率的检漏仪示值为Q_{标准漏孔示值}，被校漏孔漏率的检漏仪示值为Q_{被校漏孔示值}，标准漏孔漏率值为Q_{标准漏孔漏率值}，则被校真空氦漏孔的实际漏率值为：

现有技术存在的技术问题是：

1.带氦气源的漏孔可直接接入氦质谱检漏仪进行检测，不带氦气源的漏孔需要检测人员外部提供高纯氦气，但如何快速有效提供一定压力的高纯氦气，现有技术还未有探讨。

2.由于氦质谱检漏仪并不是线性的，采用一只标准漏孔对被检测漏孔进行校准时，引入的误差较大。

发明内容

本发明的目的是提供一种新的不带氦气源的真空氦漏孔检测装置及方法，用于解决不带氦气源的真空氦漏孔的目前无法进行校准的问题，以及采用传统的一只标准漏孔进行漏率校准时误差较大问题。

一种不带氦气源的真空氦漏孔检测装置，包括第一标准真空氦漏孔5、第二标准真空氦漏孔6、被校真空氦漏孔7、压力计、机械泵12、氦气瓶10；其中，第一标准真空氦漏孔5漏率值小于被校真空氦漏孔7，第二标准真空氦漏孔6的漏率值大于被校真空氦漏孔7；第一标准真空氦漏孔5、第二标准真空氦漏孔6、被校真空氦漏孔7并联接入氦质谱检测仪1，且各自前端设置阀门；所述被校真空氦漏孔7后端设置所述数字压力计11，并分两路分别与机械泵12和氦气瓶10连接；所述机械泵12和氦气瓶10各自前端设有阀门。

优选的，所述阀门均为气动阀门。

优选的，所述压力计为数字压力计11。

优选的，第一标准真空氦漏孔5漏率值小于且接近被校真空氦漏孔7，第二标准真空氦漏孔6的漏率值大于且接近被校真空氦漏孔7。

一种不带氦气源的真空氦漏孔检测方法，采用上述任意一项所述的真空氦漏孔检测装置；第一标准真空氦漏孔5漏孔漏率值Q_{标准漏孔漏率值1}小于被校漏孔漏率值且接近被校漏孔漏率值，第二标准真空氦漏孔6漏率值Q_{标准漏孔漏率值2}大于被校漏孔漏率值且接近被校漏孔漏率值，分别接入氦质谱检漏仪，氦质谱检漏仪显示值分别为Q_{标准漏孔示值1}和Q_{标准漏孔示值2}，则被校漏孔的漏率值为两次测量的平均值，即：

进一步的，包括以下步骤：

S1、将第一标准真空氦漏孔5、第二标准真空氦漏孔6、被校真空氦漏孔7与氦质谱检漏仪放在同一环境下不低于24小时，氦质谱检漏仪启动后先预热设定时间；

S2、将被校真空氦漏孔7接入氦质谱检漏仪，准备一个四通气管，一端连接被校真空氦漏孔7，一端连接数字压力计11，一端通过第一气动阀9连接机械泵12，一端通过针阀8连接氦气源；