[发明专利]一种光刻胶供给装置

说明书

本发明属于半导体涂胶显影技术领域，具体涉及一种光刻胶供给装置，包括至少两组供给胶瓶、胶空传感器、前端缓存瓶以及转换装置；本发明设置至少两组供给胶瓶，并为供给胶瓶配置胶空传感器及缓冲装置；在检测到某一组供给胶瓶内光刻胶量不足时进行供给胶瓶转换，保证对晶圆的光刻胶正常供给。本发明能够防止光刻胶空后没有及时更换导致机台停止，防止机台停止时间过长晶圆在机台内被过度烘烤影响一批晶圆，提高了工艺良率。

技术领域

本发明属于半导体涂胶显影技术领域，具体涉及一种光刻胶供给装置。

背景技术

涂胶显影机主要包括涂胶/显影单元和冷/热盘等。涂胶单元作用是在wafer(晶圆)表面均匀地涂覆光刻胶层，所以光刻胶的不间断供给尤其重要。

现有光刻胶的供给技术是，一个PR nozzle(光刻胶喷头)只有一瓶光刻胶供液，光刻胶从胶瓶里打出来到le tank(缓存瓶)→PR pump(光刻胶泵)→filter(过滤器)→PRnozzle(光刻胶喷头),胶瓶到le tank之间有一个empty sensor(空瓶传感器),emptysensor感应到胶空后empty信号会传送到机台，机台出现PR empty stop alarm(光刻胶空了停止报警)，如果光刻胶没有及时更换，涂胶单元停止工作，ARM(手臂)停留在涂胶单元会导致其他wafer没有及时取出去出现过度烘烤，导致工艺不良。

发明内容

有鉴于此，本发明提出一种光刻胶供给装置，设置至少两组供给胶瓶，并为供给胶瓶配置胶空传感器及缓冲装置；在检测到某一组供给胶瓶内光刻胶量不足时进行供给胶瓶转换，保证对晶圆的光刻胶正常供给。本发明能够防止光刻胶空后没有及时更换导致机台停止，防止机台停止时间过长晶圆在机台内被过度烘烤影响一批晶圆，提高了工艺良率。

为了实现上述技术目的，本发明所采用的具体技术方案为：

一种光刻胶供给装置，包括：

至少两组供给胶瓶；

胶空传感器，用于检测所述供给胶瓶中的光刻胶的充斥量；

至少两组前端缓存瓶，分别基于入口连通所述供给胶瓶，用于暂存所述光刻胶；

转换装置，与所述胶空传感器电连接，入口连通各所述前端缓存瓶连通，用于选择至少一个所述前端缓存瓶向光刻胶喷头处供胶。

进一步的，所述胶空传感器为一组以上，各所述胶空传感器分别检测各所述供给胶瓶中的光刻胶的充斥量。

进一步的，所述转换装置与光刻胶泵之间设置有后端缓存瓶。

进一步的，所述转换装置包括：

自动供给面板，连接各所述胶空传感器，在至少一个所述供给胶瓶为空时产生切换信号；

切换阀，设置有至少两组阀门入口以及至少一组阀门出口，基于各阀门入口分别连接各所述前端缓存瓶，出口连通所述后端缓存瓶

电磁阀，基于所述切换信号产生动作带动所述切换阀，使所述阀门出口与连接非空的所述供给胶瓶的阀门入口连通。

进一步的，所述转换装置与所述光刻胶喷头之间设置有光刻胶泵以及过滤器；所述过滤器设置在所述光刻胶泵的下游。

进一步的，所述自动供给面板上设置有显示部；所述显示部用于显示向所述光刻胶喷头供胶的所述供给胶瓶的编号。

进一步的，所述显示部上设置有指示灯，所述显示部基于所述指示灯显示向所述光刻胶喷头供胶的所述供给胶瓶的编号。

采用上述技术方案，本发明还能够带来以下有益效果：

本发明设置前端缓存瓶以及后端缓存瓶对少量光刻胶进行缓存，能够进一步保障光刻胶的持续供应；