[发明专利]一种液晶显示器及其制造方法

权利要求书

1.一种液晶显示器的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1：在上层玻璃上表面贴附上层偏光片；

步骤2：将液体状态的PI印到上层玻璃下表面，后经过200-280℃的温度进行固化得到上层PI层；

步骤3：重复步骤1-2制备下层偏光片、下层玻璃、下层PI层；

步骤4：采用抽真空方法，将液晶注入液晶显示器空盒中；

步骤5：将密封胶丝印在上层PI层下表面或下层PI层上表面，通过贴合、热压工序将液晶盒置于上下层结构之间进行组合和密封。

2.根据权利要求1所述的液晶显示器的制造方法，其特征在于，所述液晶的模式为扭曲向列液晶TN-LCD、高扭曲向列液晶HTN-LCD、 超高扭曲向列液晶STN-LCD、补偿型超高扭曲向列液晶FSTN-LCD、垂直取向型液晶VA-LCD或EBN液晶模式。

3.根据权利要求1所述的液晶显示器的制造方法，其特征在于，所述上层玻璃或下层玻璃厚度为0.2mm-3.0mm。

4.根据权利要求3所述的液晶显示器的制造方法，其特征在于，所述上层玻璃或下层玻璃制备方法包括以下步骤：

步骤一：选用一面为ITO，一面为铬面的玻璃，先在铬面通过涂胶机，将光刻胶通过涂胶机均匀涂在铬面上；

步骤二：通过图形掩膜版，图形根据客户需求进行设计制作，采用曝光机，对已涂有光刻胶的铬面进行曝光，曝光量100MJ/cm²；

步骤三：采用浓度0.6±0.1%℃的KOH，温度23±2℃，对曝光后的铬面玻璃进行显影，去除掉光照部分的光刻胶、露出需要酸刻去除掉的部分铬；

步骤四：将硝酸铈铵、高氯酸，DI水按体积比15：1：80的比例配成酸刻液，温度23±2℃，对已显影的铬面进行酸刻，酸刻时间110-120秒，去除不需要的部分铬；

步骤五：采用浓度5.0±1%KOH，温度45±2℃的脱膜液，脱膜清洗设备速度2500±200MM/MIN对已酸刻的铬面进行脱膜，去除掉铬面多余的光刻胶，留下铬面所需要的图形；

步骤六：采用目前行业现行技术再对ITO面进行光刻，得到ITO面所需要的图案。

5.根据权利要求3所述的液晶显示器的制造方法，其特征在于，所述上层玻璃或下层玻璃制备方法包括以下步骤：

步骤一：选用一面为铬面的玻璃，先在铬面通过涂胶机，将光刻胶通过涂胶机均匀涂在铬面上；

步骤二：通过图形掩膜版，图形根据客户需求进行设计制作，采用曝光机，对已涂有光刻胶的铬面进行曝光，曝光量100MJ/cm²；

步骤三：采用浓度0.6±0.1%℃的KOH，温度23±2℃，对曝光后的铬面玻璃进行显影，去除掉光照部分的光刻胶、露出需要酸刻去除掉的部分铬；

步骤四：将硝酸铈铵、高氯酸，DI水按体积比15：1：80的比例配成酸刻液，温度23±2℃，对已显影的铬面进行酸刻，酸刻时间110-120秒，去除不需要的部分铬；

步骤五：采用浓度5.0±1%KOH，温度45±2℃的脱膜液，脱膜清洗设备速度2500±200MM/MIN对已酸刻的铬面进行脱膜，去除掉铬面多余的光刻胶，留下铬面所需要的图形；

步骤六：采用磁控溅射、真空溅射、真空蒸发、化学气相沉积或溶胶-凝胶技术在处理后的铬面上镀绝缘层，在绝缘层表面再镀ITO膜；

步骤七：采用目前行业现行技术再对ITO面进行光刻，得到ITO面所需要的图案。

6.根据权利要求4或5所述的液晶显示器的制造方法，其特征在于，玻璃和PI层之间设置TOP层，将液体状态的TOP印到玻璃表面，在220-340℃进行固化得到TOP层。

7.根据权利要求4或5所述的液晶显示器的制造方法，其特征在于，PI层表面设置间隔粒子层，将间隔粒子按数量要求喷洒到上层PI层下表面或下层PI层上表面，得到间隔粒子层。