[发明专利]一种FP腔用晶体抛光工艺

说明书

本发明公开了一种FP腔用晶体抛光工艺，采用下摆抛光机进行抛光，下摆抛光机包括升降机头和抛光模，升降机头上设置有真空管，真空管底部设置有可拆卸更换的定位夹盘，定位夹盘朝下设置并与真空管贯通连接，定位夹盘内还设置有橡胶垫圈；先对晶体镜片进行清洗，安装定位夹盘，将晶体镜片托设在定位夹盘内，通过对真空管抽真空，使得晶体镜片被吸附在定位夹盘内，随后通过升降机头将晶体镜片下移至抛光模表面并接触，施压并达到抛光设定压力，通过抛光模对晶体镜片进行抛光；抛光结束后，继续对真空管进行抽真空，升降机头复位，得到晶体镜片，将晶体镜片翻转一面，继续抛光，得到成品。本发明生产的镜片抛光质量优，且便于制备。

技术领域

本发明涉及镜片制备技术领域，具体涉及一种FP腔用晶体抛光工艺。

背景技术

FP腔是光学谐振腔，是一种光波在其中来回反射从而提供光能反馈的空腔，其在激光器、光频原子钟、光纤传感技术中运用。

FP腔是由设计好的腔体结构以及镜片配合形成的，镜片根据设计需求进行选择，而镜片的抛光加工优劣决定了FP腔的性能，因此镜片抛光过程是极为重要的。

现有的镜片在抛光时，使用的抛光设备较多，特别是对球形镜片抛光时，一般采用下摆抛光机，镜片安装在位于上方的机头上，下部具有球形凹面的抛光头进行摆动，实现对镜片表面的抛光，在使用时，由于镜片是吊装设置的，因此镜片会因自重而掉落，在摆放过程中，工人一般采用双面胶进行黏贴，虽然能够保证镜片不掉落，但是双面胶对镜片表面的污染较难清理，且清理时容易造成伤害，对于镜片抛光质量受到极大影响。

发明内容

本发明要解决上述技术问题并提供一种FP腔用晶体抛光工艺，生产的镜片抛光质量优，且便于制备。

为了解决上述技术问题，本发明提供了一种FP腔用晶体抛光工艺，采用下摆抛光机进行抛光，所述下摆抛光机包括升降机头和抛光模，所述升降机头上设置有真空管，所述真空管底部设置有可拆卸更换的定位夹盘，所述定位夹盘朝下设置并与真空管贯通连接，所述定位夹盘内还设置有橡胶垫圈；

抛光工艺包括以下步骤：

步骤1)先对晶体镜片进行清洗；

步骤2)找寻与晶体镜片匹配的定位夹盘，并将定位夹盘固定至真空管底部；

步骤3)将晶体镜片托设在定位夹盘内，通过对真空管抽真空，使得晶体镜片被吸附在定位夹盘内并通过橡胶垫圈垫设；

步骤4)通过升降机头将晶体镜片下移至抛光模表面并接触，且在发生压力变化时，真空管内解除真空，随后继续施压并达到抛光设定压力；

步骤5)通过抛光模对晶体镜片进行抛光；

步骤6)抛光结束后，继续对真空管进行抽真空，随后升降机头上移复位，待托设晶体镜片后解除真空，并将晶体镜片翻转一面，跳转至步骤3)继续执行，直至晶体镜片的两个表面均抛光完成，得到抛光成品。

进一步的，所述定位夹盘底部设置有锥形避让面。

进一步的，所述真空管内设置有环形限位凸部，所述环形限位凸部套设在活动柱上，所述活动柱两端均设置有限位板，位于活动柱上端的限位板上设置有硅胶密封圈，位于活动柱下端的限位板上设置有辅助垫圈，所述辅助垫圈用于与晶体镜片中部抵接，所述活动柱表面设置有若干导气孔。

进一步的，当所述辅助垫圈与晶体镜片中部抵接且未发生形变时，所述定位夹盘内空间通过导气孔与真空管贯通。

进一步的，所述真空管还与高压气管连接，所述高压气管提供高压力，并通过高压力挤压活动柱移动，使得辅助垫圈形变并保证硅胶密封圈与限位凸部配合将真空管密封。

进一步的，所述导气孔对应的位于活动柱下端的限位板上设置有抽气孔，所述抽气孔一端开设在辅助垫圈中部位置。