[发明专利]改良型PVD镀膜转架结构在审
申请号: | 202211106428.5 | 申请日: | 2022-09-12 |
公开(公告)号: | CN115537755A | 公开(公告)日: | 2022-12-30 |
发明(设计)人: | 彭苏红;廖勇;祝恒 | 申请(专利权)人: | 浙江海量纳米科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50;C23C14/32 |
代理公司: | 金华蘑菇云专利代理事务所(普通合伙) 33461 | 代理人: | 刘浩 |
地址: | 314400 浙江省嘉兴市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 改良 pvd 镀膜 结构 | ||
1.一种改良型PVD镀膜转架结构,转架安装在镀膜腔体内,其包括两转盘,两转盘间圆周方向设置多个挂架杆,用于安放镀件的挂架,形成镀膜工位;其特征在于:对应各镀膜工位远离靶材的方向,在转盘上开设有呈半包状设置的调节滑槽,在调节滑槽内活动设置有可调挡板,可调挡板包括若干转动连接的挡板,挡板高度与两转盘的间距相适应,相邻挡板间通过活动轴连接,且活动轴可适应性延挡板轴向滑动,以使得活动轴可穿设至调节滑槽内定位并与调节滑槽错开时可收缩至挡板内。
2.根据权利要求1所述的改良型PVD镀膜转架结构,其特征在于:调节滑槽包括设置在挂架杆内侧的横向设置的滑槽和设置在挂架杆两侧外扩的滑槽二,滑槽二延伸至相邻挂架杆的中部位置,以形成半开合式槽体,便于后续挡板形成半包围结构。
3.根据权利要求2所述的改良型PVD镀膜转架结构,其特征在于:在滑槽二的末端还连通有相对滑槽二内折的滑槽三。
4.根据权利要求3所述的改良型PVD镀膜转架结构,其特征在于:滑槽三延伸至转盘的侧边部分。
5.根据权利要求1-4中任意一项所述的改良型PVD镀膜转架结构,其特征在于:相邻挡板的两连接端侧对应的分别设有连接块和让位槽,让位槽与连接块件存在调节间隙,同时在连接块上开设贯通的轴孔,挡板对应连接块在让位槽两侧也开设有轴孔,挡板外端侧的轴孔向外贯通设置,以使得活动轴穿过轴孔并可向外伸出;活动轴的总长度小于轴孔的整体长度,以使其可嵌入至轴孔内。
6.根据权利要求5所述的改良型PVD镀膜转架结构,其特征在于:顶部的活动轴中部对应调节间隙设置有螺纹,并螺接有调高螺母。
7.根据权利要求5所述的改良型PVD镀膜转架结构,其特征在于:底部的活动轴中部对应调节间隙部分固定有限位块,且限位块贴合连接块时,底部的活动轴可伸出挡板、并保持底部活动轴上端侧仍设置于轴孔内。
8.根据权利要求7所述的改良型PVD镀膜转架结构,其特征在于:在转盘上沿圆周方向开设有与滑槽二和滑槽三连通的周向滑槽。
9.根据权利要求8所述的改良型PVD镀膜转架结构,其特征在于:周向滑槽沿径向设置为多个。
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