[发明专利]改良型PVD镀膜转架结构

说明书

本发明公开了一种改良型PVD镀膜转架结构，转架安装在镀膜腔体内，其包括两转盘，两转盘间圆周方向设置多个挂架杆，用于安放镀件的挂架，形成镀膜工位；对应各镀膜工位远离靶材的方向，在转盘上开设有呈半包状设置的调节滑槽，在调节滑槽内活动设置有可调挡板，可调挡板包括若干转动连接的挡板，挡板高度与两转盘的间距相适应，相邻挡板间通过活动轴连接，且活动轴可适应性延挡板轴向滑动，以使得活动轴可穿设至调节滑槽内定位并与调节滑槽错开时可收缩至挡板内。本发明的改良型PVD镀膜转架结构，通过在转盘上设置调节滑槽，同时采用可转动并在调节滑槽内滑动限位的挡板，可形成不同尺寸形状的挡板。

技术领域

本发明涉及PVD镀膜设备技术领域，尤其涉及一种改良型PVD镀膜转架结构。

背景技术

物理气相沉积(PVD)是通过蒸发，电离或溅射等过程，产生金属粒子并与反应气体反应形成化合物沉积在工件表面。物理气相沉积镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。

其中，对于真空离子镀膜，是借助于惰性气体辉光放电，使镀料(如金属钛)气化蒸发离子化，离子经电场加速，以较高能量轰击工件表面，形成镀层。

一般待加工的工件是挂设在镀膜挂架(镀膜杆)上，挂架则安设在转架上。镀膜过程中，转架旋转带动被镀工件在镀膜腔体内旋转，旋转的工件绕经安设在腔体侧面的靶材附近时，靶材粒子沉积到工件表面进行镀膜。

但是离子镀，靶材一般设置于腔体侧面，镀件随着转架圆周转动过程中，绕经靶材附近时，即接近和远离靶材的过程，工件一直暴露在靶材溅射范围，这样沉积在工件表面的膜层的膜厚无法精准控制，膜厚不均匀。因此现有技术采用在转架的转盘上设置挡板的方式，如专利号CN202121476762.0，可以改善上述问题，但是其挡板是直接固定在转盘上，因此对于种类尺寸不同的镀件，挡板形状需要调节，因此需要多套转架进行适配。

发明内容

本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本发明的一个目的在于提出一种改良型PVD镀膜转架结构，在转盘上设置调节滑槽，同时采用可转动并在调节滑槽内滑动调节的挡板，可形成不同尺寸形状的挡板。

本发明的技术方案如下：

一种改良型PVD镀膜转架结构，转架安装在镀膜腔体内，其包括两转盘，两转盘间圆周方向设置多个挂架杆，用于安放镀件的挂架，形成镀膜工位；对应各镀膜工位远离靶材的方向，在转盘上开设有呈半包状设置的调节滑槽，在调节滑槽内活动设置有可调挡板，可调挡板包括若干转动连接的挡板，挡板高度与两转盘的间距相适应，相邻挡板间通过活动轴连接，且活动轴可适应性延挡板轴向滑动，以使得活动轴可穿设至调节滑槽内定位并与调节滑槽错开时可收缩至挡板内。

进一步的，调节滑槽包括设置在挂架杆内侧的横向设置的滑槽和设置在挂架杆两侧外扩的滑槽二，滑槽二延伸至相邻挂架杆的中部位置，以形成半开合式槽体，便于后续挡板形成半包围结构。

进一步的，在滑槽二的末端还连通有相对滑槽二内折的滑槽三。

进一步的，滑槽三延伸至转盘的侧边部分。

进一步的，相邻挡板的两连接端侧对应的分别设有连接块和让位槽，让位槽与连接块件存在调节间隙，同时在连接块上开设贯通的轴孔，挡板对应连接块在让位槽两侧也开设有轴孔，挡板外端侧的轴孔向外贯通设置，以使得活动轴穿过轴孔并可向外伸出，活动轴的总长度小于轴孔的整体长度，以使其可嵌入至轴孔内。

进一步的，顶部的活动轴中部对应调节间隙设置有螺纹，并螺接有调高螺母。

进一步的，底部的活动轴中部对应调节间隙部分固定有限位块，且限位块贴合连接块时，底部的活动轴可伸出挡板、并保持底部活动轴上端侧仍设置于轴孔内。

进一步的，在转盘上沿圆周方向开设有与滑槽二和滑槽三连通的周向滑槽。