[发明专利]一种电流镜型等效电容提升电路在审
申请号: | 202211127307.9 | 申请日: | 2022-09-16 |
公开(公告)号: | CN115599162A | 公开(公告)日: | 2023-01-13 |
发明(设计)人: | 刘仕强;贺策林;孙洪涛;李逸康;甄少伟 | 申请(专利权)人: | 深圳市泰德半导体有限公司 |
主分类号: | G05F3/26 | 分类号: | G05F3/26 |
代理公司: | 深圳中创智财知识产权代理有限公司 44553 | 代理人: | 吴英 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山区南山街道登良*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电流 等效 电容 提升 电路 | ||
1.一种电流镜型等效电容提升电路,其特征在于,包括电容、等效MOS管、信号端和电流镜单元,所述电流镜单元包括N1节点、N2节点、N3节点和N4节点,所述N1节点、N2节点分别通过第一电阻、第二电阻接地,所述第一电阻阻值大于第二电阻阻值,所述N3节点和N4节点分别与第一电流源、第二电流源连接,所述第一电流源的电流值小于第二电流源的电流值,所述电容的第一极板与信号端连接,所述电容的第二极板与N1节点连接,所述等效MOS管的漏极与信号端连接,所述等效MOS管的源极与N2节点连接,所述等效MOS管的栅极与N3节点连接。
2.根据权利要求1所述的一种电流镜型等效电容提升电路,其特征在于,所述电流镜单元还包括互为镜像的第一晶体管和第二晶体管,所述第一晶体管的集电极与所述N3节点连接,所述第一晶体管的发射极与N1节点连接,第二晶体管的集电极与所述N4节点连接,所述第二晶体管的发射极与N2节点连接,第一晶体管的基极与第二晶体管的基极连接,并与所述N4节点连接。
3.根据权利要求2所述的一种电流镜型等效电容提升电路,其特征在于,所述第一晶体管、第二晶体管为NPN型双极型晶体管。
4.根据权利要求2所述的一种电流镜型等效电容提升电路,其特征在于,所述第一晶体管的发射极和所述第二晶体管的发射极的面积比为1:n。
5.根据权利要求4所述的一种电流镜型等效电容提升电路,其特征在于,所述第一电流源和所述第二电流源的电流比为1:n,所述第一电阻和所述第二电阻的电阻值比为n:1。
6.根据权利要求5所述的一种电流镜型等效电容提升电路,其特征在于,n取值范围为1-10。
7.根据权利要求2所述的一种电流镜型等效电容提升电路,其特征在于,所述等效MOS管为NMOS管。
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