[发明专利]用于谐振器制作的方法、体声波谐振器有效
申请号: | 202211141015.0 | 申请日: | 2022-09-20 |
公开(公告)号: | CN115225050B | 公开(公告)日: | 2022-12-20 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 深圳新声半导体有限公司 |
主分类号: | H03H3/02 | 分类号: | H03H3/02;H03H9/02 |
代理公司: | 北京康盛知识产权代理有限公司 11331 | 代理人: | 陶俊洁 |
地址: | 518109 广东省深圳市福田区梅林街*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 谐振器 制作 方法 声波 | ||
本申请涉及谐振器技术领域,公开一种用于谐振器制作的方法,包括:刻蚀底电极层,暴露出压电层;利用键合层将刻蚀后的待处理结构与衬底键合,键合层、压电层、底电极层和衬底围合形成空腔;第一区域覆盖压电层上预设的待刻蚀区域;第一区域的面积大于待刻蚀区域的面积;第一区域为键合层与底电极层围合形成的孔所处区域;刻蚀顶电极层,暴露出压电层;第二区域覆盖压电层上预设的待刻蚀区域;第二区域的面积大于待刻蚀区域的面积;第二区域为顶电极层与顶电极层围合形成的孔所处区域。这样,在进行打孔时,只需要对压电层进行打孔,不会使得顶电极层和压电层的边缘不光滑。能够提高制作出的谐振器的ESD能力。本申请还公开一种体声波谐振器。
技术领域
本申请涉及谐振器技术领域,例如涉及一种用于谐振器制作的方法、体声波谐振器。
背景技术
通常,体声波谐振器都具有空腔。为了平衡空腔内的气压,通常会在体声波谐振器上设置释放孔或通气孔。同时,为了确保体声波谐振器的性能,在制作完体声波谐振器后,通常会对体声波谐振器施加高压,以测试体声波谐振器的ESD(Electro-Staticdischarge,静电释放)能力。
相关技术中,通常在制作完谐振器后,对顶电极层、压电层和底电极层打孔,从而形成释放孔或通气孔。由于是打孔直接贯穿顶电极层、压电层和底电极层这三层,因此顶电极层、压电层和底电极层位于释放孔所处位置的边缘近乎齐平。此时,由于顶电极层、压电层和底电极层位于释放孔位置的边缘近乎齐平,ESD的失效模式会处于压电层位于释放孔所处位置的边缘。而在打孔的过程中,可能造成顶电极层和底电极层位于释放孔所处位置的边缘出现损伤,使得顶电极层和压电层位于释放孔所处位置的边缘不光滑。此时,在对底电极层和顶电极层施加高压的情况下,会使电荷聚集在释放孔所处位置,很容易在释放孔所处位置形成ESD放电,从而导致ESD能力下降。
在实现本申请实施例的过程中,发现相关技术中至少存在如下问题:现有的制作谐振器的工艺制作出来的谐振器,谐振器的ESD能力较低。
发明内容
为了对披露的实施例的一些方面有基本的理解,下面给出了简单的概括。所述概括不是泛泛评述,也不是要确定关键/重要组成元素或描绘这些实施例的保护范围,而是作为后面的详细说明的序言。
本发明实施例提供一种用于谐振器制作的方法、体声波谐振器,以提高谐振器的ESD能力。
在一些实施例中,待处理结构包括底电极层、顶电极层和设置在所述底电极层和所述顶电极层之间的压电层;用于谐振器制作的方法,包括:刻蚀所述底电极层,暴露出压电层;利用键合层将刻蚀后的待处理结构与衬底键合,所述键合层、所述压电层、所述底电极层和所述衬底围合形成空腔;第一区域覆盖所述压电层上预设的待刻蚀区域;所述第一区域的面积大于待刻蚀区域的面积;所述第一区域为键合层与底电极层围合形成的孔所处区域;刻蚀所述顶电极层,暴露出压电层;第二区域覆盖所述压电层上预设的待刻蚀区域;所述第二区域的面积大于待刻蚀区域的面积;所述第二区域为顶电极层与顶电极层围合形成的孔所处区域。
在一些实施例中,所述待处理结构还包括第一钝化层,所述第一钝化层设置在底电极层远离所述压电层的一侧;刻蚀所述底电极层,暴露出压电层,包括:刻蚀所述第一钝化层和所述底电极层,暴露出压电层。
在一些实施例中,所述待处理结构还包括第二钝化层,所述第二钝化层设置在顶电极层远离所述压电层的一侧;刻蚀所述顶电极层,暴露出压电层,包括:刻蚀所述顶电极层和所述第二钝化层,暴露出压电层。
在一些实施例中,刻蚀所述顶电极层,暴露出压电层后,还包括:刻蚀待刻蚀区域,形成释放孔。
在一些实施例中,所述第一区域的面积小于所述第二区域的面积。
在一些实施例中,所述第一区域和待刻蚀区域的形状均为圆形;第一孔径差值的一半大于或等于4微米;所述第一孔径差值为第一区域的孔径减去待刻蚀区域的孔径。
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