[发明专利]一种配合十字组贴的避位工艺

权利要求书

1.一种配合十字组贴的避位工艺，其特征在于：包括以下步骤

1)在厚PC膜的顶面复合一层低粘性的保护膜；

2)从保护膜的顶面下刀半切到厚PC膜上，切出各内框；

3)在厚PC膜的顶面依次复合一层主材双面胶和一层第一离型面纸；

4)从第一离型面纸的顶面下刀半切到厚PC膜上，并排掉第一离型面纸、主材双面胶和保护膜；

5)在厚PC膜的顶面复合一层第二离型面纸；

6)从第二离型面纸的顶面下刀半切到厚PC膜上，切出各外框；

7)在厚PC膜的内框中切出多个内孔。

2.根据权利要求1所述的一种配合十字组贴的避位工艺，其特征在于：在步骤1)中，在厚PC膜的底面还复合有一层托底低粘膜。

3.根据权利要求1所述的一种配合十字组贴的避位工艺，其特征在于：在步骤2)中，根据冲压模具的加工孔形状外扩并切出内框。

4.根据权利要求3所述的一种配合十字组贴的避位工艺，其特征在于：外扩的长度为0.25mm。

5.根据权利要求1所述的一种配合十字组贴的避位工艺，其特征在于：在步骤2)中，在切出内框后，排掉保护膜上的废料。

6.根据权利要求1所述的一种配合十字组贴的避位工艺，其特征在于：在步骤7)中，在切出各内孔后，排掉第二离型面纸。

7.根据权利要求1所述的一种配合十字组贴的避位工艺，其特征在于：在步骤7)中，各外框之间为避位区。

8.根据权利要求1所述的一种配合十字组贴的避位工艺，其特征在于：厚PC膜的宽度为55mm。