[发明专利]捕集装置和包括其的基板处理装置

说明书

提供了一种能够稳定地控制弯液面位置的基板处理装置。该基板处理装置包括：头单元，用于排放液态化学品；贮存器，用于贮存液态化学品，并向头单元供应液态化学品；压力调节单元，用于调节贮存器内部的压力；以及捕集单元，布置在贮存器和压力调节单元之间，并用于捕集从贮存器中产生的雾气。

技术领域

本发明涉及一种捕集装置和包括该捕集装置的基板处理装置。

背景技术

为了制造LCD面板、PDP面板、LED面板等显示装置，利用喷墨头在基板上进行印刷。喷墨头的喷嘴中的弯液面位置是决定墨的喷射特性的重要因素之一。这种弯液面位置可以通过弯液面压力控制器(MPC；Meniscus Pressure Controller)来控制。

发明内容

解决的技术问题

本发明要解决的技术问题是，提供一种能够在不发生错误操作的情况下稳定地控制弯液面位置的基板处理装置。

本发明要解决的另一技术问题是，提供一种用于上述基板处理装置的捕集装置。

本发明的课题不限于上述课题，本领域的技术人员通过下面的描述可以清楚地理解未提及的其他课题。

解决方法

为解决上述技术问题，根据本发明一个方面的基板处理装置包括：头单元，用于排放液态化学品；贮存器，用于贮存液态化学品，并向所述头单元供应所述液态化学品；压力调节单元，用于调节所述贮存器内部的压力；以及捕集单元，布置在所述贮存器和所述压力调节单元之间，并用于捕集从所述贮存器中产生的雾气。

为解决上述技术问题，根据本发明另一个方面的基板处理装置包括：台，用于处理基板；门架，横跨所述台布置；以及喷墨头模块，设置在所述门架上，并用于向所述基板排放墨，以及其中，所述喷墨头模块包括：头单元，用于排放墨；贮存器，用于贮存墨，并向所述头单元供应所述墨；压力调节单元，用于调节所述贮存器内部的压力；以及捕集单元，布置在所述贮存器和所述压力调节单元之间，并捕集在所述贮存器中产生的雾气，其中，所述捕集单元包括：主体；第一管线，设置在所述主体内，与所述贮存器连接，并沿第一方向延伸；第二管线，设置在所述主体内，与所述压力调节单元连接，并沿第二方向延伸；第三管线，设置成从所述主体的上表面贯穿所述第一管线和所述第二管线；以及捕集层，设置在所述第一管线的内壁或所述第二管线的内壁上，并用于捕集所述雾气。

为解决上述另一技术问题，根据本发明的一个方面的捕集装置包括：主体；第一管线，设置在所述主体内，与入口连接，并沿一个方向延伸；第二管线，设置在所述主体内，与出口连接，并沿所述一个方向延伸；第三管线，设置成从所述主体的上表面贯穿所述第一管线和所述第二管线；以及捕集层，设置在所述第一管线的内壁或所述第二管线的内壁上，并用于捕集雾气。

其他实施例的具体事项包含在详细的说明及附图中。

附图说明

图1是用于说明根据本发明的一些实施例的基板处理装置的框图。

图2是详细示出图1的供应贮存器、捕集单元和压力调节单元的图。

图3是用于说明根据本发明的第一实施例的捕集单元的剖视图。

图4是用于说明图3的捕集单元中的雾气的运动的图。

图5是用于说明根据本发明的第二实施例的捕集单元的剖视图。

图6是用于说明根据本发明的第三实施例的捕集单元的剖视图。

图7是用于说明根据本发明的第四实施例的捕集单元的剖视图。

图8是用于说明根据本发明的第五实施例的捕集单元的剖视图。

图9是用于说明应用了根据本发明的一些实施例的基板处理装置的设备的示例图。