[发明专利]一种掩膜版、曝光设备和曝光方法

权利要求书

1.一种掩膜版，其特征在于，包括：

第一掩膜子版，包括多个子掩膜图形，以及位于相邻所述子掩膜图形之间的遮光区，多个所述子掩膜图形中，包括多组子掩膜图形组，同一所述子掩膜图形组包括同种曝光图案，不同所述子掩膜图形组包括不同种曝光图案；

第二掩膜子版，设置在所述第一掩膜子版的一侧，包括多个透光区，以及位于相邻所述透光区之间的非透光区；

移动对位结构，位于所述第二掩膜子版远离所述第一掩膜子版的一侧，并与所述第二掩膜子版连接，且在所述第二掩膜子版上的正投影位于所述非透光区，用于根据接收到的对位信号，控制所述第二掩膜子版相对所述第一掩膜子版移动，以使得在不同的曝光过程中所述透光区分别对应不同的子掩膜图形组。

2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，任一所述子掩膜图形组与所述透光区对应时，该子掩膜图形组在所述第二掩膜子版上的正投影面积小于所述透光区的面积，且与所述透光区不对应的所述子掩膜图形组在所述第二掩膜子版上的正投影位于所述非透光区内。

3.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一掩膜子版包括多个第一对位标记，所述第一对位标记位于所述遮光区，每一组所述子掩膜图形组均对应一所述第一对位标记，所述第一对位标记位于所述子掩膜图形组的周边；

所述第二掩膜子版包括多个第二对位标记，所述第二对位标记位于所述非透光区，且位于所述透光区的周边。

4.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，每一组所述子掩膜图形组中，每一子掩膜图形的周边均设置有所述第一对位标记。

5.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述第一对位标记和所述第二对位标记的形状相同，和/或，所述第一对位标记和所述第二对位标记的尺寸相等。

6.根据权利要求3-5任一项所述的掩膜版，其特征在于，任一所述子掩膜图形组与所述透光区对应时，所述第一对位标记在所述第二掩膜子版上的正投影与所述第二对位标记交叠。

7.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述移动对位结构包括导轨装置和驱动装置；

所述导轨装置，位于所述第二掩膜子版远离所述第一掩膜子版的一侧，并与所述第二掩膜子版连接；

所述驱动装置，与所述导轨装置连接，用于根据接收到的对位信号，驱动所述第二掩膜子版在所述导轨装置上移动。

8.根据权利要求7所述的掩膜版，其特征在于，所述导轨装置包括第一导轨组件和第二导轨组件；

所述第一导轨组件包括第一导轨和与所述第一导轨滑动连接的第一滑块；所述第二导轨组件包括第二导轨和与所述第二导轨滑动连接的第二滑块；所述第一导轨与所述第二导轨垂直设置；

所述第一导轨与曝光设备固定连接；

所述第一滑块与第二导轨固定连接，用于带动所述第二导轨沿所述第一导轨移动；

所述第二滑块与所述第二掩膜子版固定连接，用于带动所述第二掩膜子版沿所述第二导轨移动。

9.一种曝光设备，其特征在于，包括：如权利要求1-8任一项所述的掩膜版，以及曝光室，所述曝光室内设置有用于承载所述掩膜版的掩膜承载台。

10.一种采用权利要求1-8任一项所述的掩膜版曝光的曝光方法，其特征在于，包括：

移动对位结构接收曝光设备的对位信号；

移动对位结构根据所述对位信号控制所述第二掩膜子版移动，以使得在不同的曝光过程中所述透光区分别对应不同的子掩膜图形组；

采用所述第一掩膜子版和所述第二掩膜子版对待曝光基板进行曝光。