[发明专利]复合膜及其制备方法、集流体、极片和电池在审

专利信息
申请号: 202211243969.2 申请日: 2022-10-11
公开(公告)号: CN115832316A 公开(公告)日: 2023-03-21
发明(设计)人: 薛颜同;伍平生;王岳利;尚鲲鹏;雷克武 申请(专利权)人: 宁德时代新能源科技股份有限公司
主分类号: H01M4/66 分类号: H01M4/66;H01M4/13;H01M10/052;H01M10/058;C23C14/00;C23C14/08;C23C14/35
代理公司: 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 代理人: 胡庆
地址: 352100 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 复合 及其 制备 方法 流体 电池
【说明书】:

发明涉及涂层制备技术领域,特别涉及一种复合膜及其制备方法、集流体、极片和电池。复合膜包括AlSiMO膜层,其中,M包括Cr、Zr、Ti中的一种或多种;Al的摩尔含量为30%‑70%;Si的摩尔含量为4%‑15%;M的摩尔含量为1%‑10%;O的摩尔含量为25%‑45%。AlSiMO膜层为复合金属膜层,通过不同元素的复合提高整体膜层的性能,各金属元素通过氧化物的形式存在于膜层中,通过多种金属氧化物混合的膜层,不仅具有氧化铝的优异特点,还具有氧化硅的力学性能,而氧化铬、氧化锆或氧化钛的引入进一步提升膜层的耐腐蚀性,且AlSiMO膜层还可以与基材形成较强的结合力,提高复合膜的整体性能。

技术领域

本发明涉及涂层制备技术领域,特别涉及一种复合膜及其制备方法、集流体、极片和电池。

背景技术

随着工业的发展,传统金属薄膜使用量不断升高,比如铝箔目前大量被应用于食品药品包装、电磁屏蔽以及锂电池等领域。但是传统铝箔成本较高,并且在加工成超薄薄膜时,容易产生针孔等缺陷。现有技术中通过在基材上沉积金属膜层,以改善金属薄膜的缺陷。例如,通过PVD(物理气相沉积技术)工艺在高分子薄膜表面沉积金属膜层,使高分子薄膜不仅具有传统铝箔特性,同时具有更低的成本,更高的安全性。

由于一些基材与金属薄膜材料的膨胀系数不同,使得金属薄膜不能有效的附着在基材上。例如,高分子材料与金属薄膜材料的膨胀系数差异较大,为了保证沉积的金属薄膜的有效附着,需要在基材和薄膜之间引入过渡层,随着使用环境的严苛以及使用寿命的延长,基材与过渡层以及金属膜层之间会出现分离的现象,导致膜层脱落。

发明内容

本发明的主要目的是提供一种复合膜,旨在通过一种复合金属膜层,提高复合膜的性能。

为实现上述目的,本发明提出的一种复合膜,所述复合膜包括AlSiMO膜层,其中,M包括Cr、Zr、Ti中的一种或多种;

Al的摩尔含量为30%-70%;

Si的摩尔含量为4%-15%;

M的摩尔含量为1%-10%;

O的摩尔含量为25%-45%。

可选地,所述复合膜还包括高分子膜层,所述AlSiMO膜层设于所述高分子膜层表面。

在复合膜中设置高分子膜层,可以避免整个复合膜均使用金属材质,降低成本。

可选地,所述复合膜还包括金属膜层,所述金属膜层设于所述AlSiMO膜层背离所述高分子膜层的一侧。

复合膜还包括金属膜层,主要用于使复合膜具有金属的特性,而且,金属膜层设于AlSiMO膜层背离高分子膜层的一侧,避免金属膜层直接设置在高分子膜层表面,降低金属膜层在复合膜上的结合力。

可选地,所述AlSiMO膜层的厚度为5nm-100nm;

和/或,所述高分子膜层的厚度为3um-100um;

和/或,所述金属膜层的厚度为0.5um-3um。

根据需要,AlSiMO膜层的厚度为5nm、10nm、20nm、30nm、40nm、50nm、60nm、70nm、80nm、90nm、100nm,具体不作限定。

根据需要,高分子膜层的厚度为3um、10um、20um、30um、40um、50um、60um、70um、80um、90um、100um,具体不作限定。

根据需要,金属膜层的厚度为0.5um、1um、1.5um、2um、2.5um、3um,具体不作限定。

可选地,所述高分子膜层的材质包括聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯或聚萘二甲酸乙二醇酯中的一种或多种的复合。

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