[发明专利]一种气体检测用双带通窄带滤光片及制作方法

权利要求书

1.气体检测用双带通窄带滤光片的制作方法，其特征在于，包括步骤有：选择并清洁中间层基材，将中间层基材设置在镀膜真空腔中加热并恒温控制；对镀膜颗粒预熔，对中间层基材进行离子轰击，然后对上膜结构镀制，上膜结构完成镀制后对下膜结构镀制；其中，对上膜结构镀制及对下膜结构镀制过程中通过动态获取每一个膜结构复合方案对应的性能评价参数进而动态调整下一次镀制过程中膜结构复合方案，直到膜结构复合方案为最优方案。

2.根据权利要求1所述的气体检测用双带通窄带滤光片的制作方法，其特征在于，所述的上膜结构和下膜结构均为多层复合镀制膜结构，所述的膜结构复合方案具体指用于确定唯一的多层复合镀制膜结构并标注每一层膜镀制厚度的参数组合方案，膜结构复合方案由矩阵结构表征；性能评价参数指在膜结构复合方案确定后根据该膜结构复合方案所镀制完成的上膜结构或下膜结构对应的评价性能的参数形成的数组。

3.根据权利要求1所述的气体检测用双带通窄带滤光片的制作方法，其特征在于，所述的膜结构复合方案具体为：

当膜结构为n层，则i＝j＝n，其中a_ij表征第i层镀膜厚度；所述性能评价参数为(b₁，b₂，b₃……b_n)＝B_1，其中b_n表征性能评价的参数在第n层镀膜上对应的分量；由性能评价参数B₁还可以计算得到性能改进参数B₂，具体地B₂＝(b₁²，b₂²，b₃²……b_n²)其中的b_n²＝b_n·x_n+(1－x_n)·b_n¹其中x_n为第n层镀膜上对应分量的滑动预测参数，其中b_n¹为第n层镀膜上对应分量的人工预测性能参数；所述动态调整下一次镀制过程中膜结构复合方案即：对于确定的A₁统计获取其对应的B₁，然后由B₁计算到B₂,将B₂转换为矩阵形即B₂＝[b₁²，b₂²，b₃²……b_n²]后计算B₂A₁＝B₃，然后计算[B₃^T1B₃^T2……B₃^Tj]＝A₂,其中B₃^T1,B₃^T2……B₃^Tj均为B₃的转置，A₂即动态调整后的膜结构复合方案。

4.根据权利要求1所述的气体检测用双带通窄带滤光片的制作方法，其特征在于，所述性能评价参数构建中性能包括检测透射率、波长容差、截止参数、应用信噪比。

5.根据权利要求1所述的气体检测用双带通窄带滤光片的制作方法，其特征在于，膜结构复合方案中的最优方案指动态调整中连续多次的动态调整均出现：调整后的膜结构复合方案A₂保持不变，或调整后的膜结构复合方案A₂变化量小于阈值的情况，该情况中调整后的膜结构复合方案A₂对应的膜结构复合方案即为最优方案。

6.一种气体检测用双带通窄带滤光片，其特征在于，由权利要求1的方法制作，包括中间层基材、中间层基材上部的上膜结构和中间层基材下部的下膜结构。