[发明专利]一种气体检测用双带通窄带滤光片及制作方法

说明书

本发明涉及一种气体检测用双带通窄带滤光片及制作方法，其方法包括步骤有：选择并清洁中间层基材，将中间层基材设置在镀膜真空腔中加热并恒温控制；对镀膜颗粒预熔，对中间层基材进行离子轰击，然后对上膜结构镀制，上膜结构完成镀制后对下膜结构镀制；其中，对上膜结构镀制及对下膜结构镀制过程中通过动态获取每一个膜结构复合方案对应的性能评价参数进而动态调整下一次镀制过程中膜结构复合方案，直到膜结构复合方案为最优方案。本申请制作的滤光片能较全面提高综合性能。

技术领域

本发明涉及一种气体检测用双带通窄带滤光片及制作方法。

背景技术

现有的气体检测用滤光片多数采用预先固化设计，然后制作封装，虽然这种技术也能一定程度提高滤光片性能，但在应用中这种滤光片一般只能提高单一性能，不能较全面提高综合性能，尤其，比如现有技术中CN113341492B公开的滤光片，该种类的滤光片结构非常固化，比如其各层的具体参数被明确限定，并且制作工艺也很单一，这样制作的滤光片性能也比较差。

发明内容

为了克服现有的技术存在的不足，本发明提供一种气体检测用双带通窄带滤光片及制作方法。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案：

一种气体检测用双带通窄带滤光片的制作方法，包括步骤有：

选择并清洁中间层基材，将中间层基材设置在镀膜真空腔中加热并恒温控制；对镀膜颗粒预熔，对中间层基材进行离子轰击，然后对上膜结构镀制，上膜结构完成镀制后对下膜结构镀制；其中，对上膜结构镀制及对下膜结构镀制过程中通过动态获取每一个膜结构复合方案对应的性能评价参数进而动态调整下一次镀制过程中膜结构复合方案，直到膜结构复合方案为最优方案。

进一步，所述的上膜结构和下膜结构均为多层复合镀制膜结构，所述的膜结构复合方案具体指用于确定唯一的多层复合镀制膜结构并标注每一层膜镀制厚度的参数组合方案，膜结构复合方案由矩阵结构表征；性能评价参数指在膜结构复合方案确定后根据该膜结构复合方案所镀制完成的上膜结构或下膜结构对应的评价性能的参数形成的数组。

进一步，所述的膜结构复合方案具体为：