[发明专利]一种近场电场定量测量方法及装置、电子设备和存储介质

权利要求书

1.一种近场电场定量测量方法，其特征在于，包括：

获取第一入射电场和第一近场电场之间的第一线性关系，所述第一近场电场由待测样品的第一测量区域基于所述第一入射电场产生；

获取扫描近场光学显微镜的仪器常数，所述仪器常数用于指示扫描近场光学显微镜对具备同一介电常数的待测样品的近场电场的实测值和模拟值之间的差异；

根据所述仪器常数和所述第一线性关系，得到待测样品上任一待测点的第一线性系数，所述第一线性系数用于指示第二入射电场和第二近场电场之间的倍数关系，所述第二近场电场由所述待测点基于所述第二入射电场产生；

根据入射到待测样品的实际入射电场和所述待测点的第一线性系数，得到所述实际入射电场下所述待测点的重构近场电场，作为所述待测点的近场电场定量测量结果。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述获取扫描近场光学显微镜的仪器常数，包括：

获取第三入射电场和第三近场电场之间的第二线性关系，所述第三近场电场由标准样品的第二测量区域基于所述第三入射电场产生；

获取模拟入射电场和第四近场电场之间的第三线性关系，所述第四近场电场由所述第二测量区域基于模拟入射电场的模拟产生；

根据所述第二线性关系和所述第三线性关系，得到所述仪器常数。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述获取第一入射电场和第一近场电场之间的第一线性关系，包括：

获取所述第一测量区域基于至少两个所述第一入射电场分别产生的所述第一近场电场；

根据所述第一入射电场和所述第一近场电场，确定所述第一线性关系；

所述获取第三入射电场和第三近场电场之间的第二线性关系，包括：

获取所述第二测量区域基于至少两个所述第三入射电场分别产生的所述第三近场电场；

根据所述第三入射电场和所述第三近场电场，确定所述第二线性关系。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述仪器常数和所述第一线性关系，得到待测样品上任一待测点的第一线性系数，包括：

获取所述待测点基于所述第二入射电场产生的所述第二近场电场；

根据所述第二入射电场、所述第二近场电场、所述仪器常数和所述第一线性关系，得到所述第一线性系数。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述获取第一入射电场和第一近场电场之间的第一线性关系前，所述方法还包括：

以所述待测样品各图形的中心的连线构成的几何图形的中心点为中心，构建包含所述第一近场电场的最小区域，将所述最小区域所在的区域作为所述第一测量区域；

其中，所述第一测量区域不包含所述扫描近场光学显微镜的探针与所述待测样品的边缘发生耦合的区域。

6.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述标准样品的形状为圆柱形，在所述获取第三入射电场和第三近场电场之间的第二线性关系前，所述方法还包括：

以所述标准样品的中心为圆心，构建包含所述第三近场电场的最小圆，将所述最小圆所在的区域作为所述第二测量区域；

其中，所述第二测量区域不包含所述扫描近场光学显微镜的探针与所述标准样品的边缘发生耦合的区域。

7.根据权利要求1-6中任意一项所述的方法，其特征在于，所述扫描近场光学显微镜的扫描入射电场从样品的底部正入射。