[发明专利]一种氧化铈纳米颗粒的合成方法及其应用于浅沟槽隔离的化学机械抛光的组合物

权利要求书

1.一种氧化铈纳米颗粒的合成方法，其特征在于，所述的CeO₂纳米颗粒合成方法为先用沉淀法制备前驱体，再利用熔盐法对前驱体进行焙烧处理，经超声分散，直接得到CeO₂纳米颗粒。

2.如权利要求1所述的一种氧化铈纳米颗粒的合成方法，其特征在于，将铈源、沉淀剂以摩尔比为1:(3～10)分别溶于超纯水中搅拌均匀得到铈源溶液和沉淀剂溶液，然后将有机添加剂加入到铈源溶液中，搅拌均匀后，再将铈源溶液缓慢滴加到沉淀剂溶液中，反应0.5～1h，进行过滤和干燥处理，得到前驱体。

3.如权利要求2所述的一种氧化铈纳米颗粒的合成方法，其特征在于，选用的铈源为六水合硝酸铈、六水合氯化铈、硝酸铈铵中的任一种。所述铈源的摩尔浓度为0.001～0.01mol。

4.如权利要求2所述的一种氧化铈纳米颗粒的合成方法，其特征在于，选用的沉淀剂为氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸氢铵、碳酸铵、草酸钾、草酸钠、碳酸钠中的任一种。所述的沉淀剂的摩尔浓度为0.003～0.1mol。

5.如权利要求2所述的一种氧化铈纳米颗粒的合成方法，其特征在于，选用的有机添加剂为氨基三亚甲基膦酸、三乙基己基磷酸、十二烷基二甲基苄基氯化铵、壬基酚聚氧乙烯醚中的一种。所述有机添加剂的摩尔浓度为0.004～0.010mol。

6.如权利要求1所述的一种氧化铈纳米颗粒的合成方法，其特征在于，所述熔盐法为将前驱体与熔盐充分混合后置于坩埚中，进行焙烧处理，冷却后反复过滤洗涤，分散于超纯水中，得到CeO₂纳米颗粒分散液。

7.如权利要求6所述的一种氧化铈纳米颗粒的合成方法，其特征在于，选用的熔盐为氯化钾、硝酸钾、氯化钠、硝酸钠和氯化锂中的两种或两种以上。

8.如权利要求6所述的一种氧化铈纳米颗粒的合成方法，其特征在于，所述的前驱体与熔盐按摩尔比例为1:(5～10)混合。

9.如权利要求6所述的一种氧化铈纳米颗粒的合成方法，其特征在于，所述焙烧为：从室温升温至500℃～800℃，保温2～4h后，进行降温，降温时间为8～10h，冷却到室温。

10.一种采用权利要求1所述的一种氧化铈纳米颗粒应用于浅沟槽隔离的化学机械抛光的组合物，其特征在于，所述的配制方法为：对所述CeO₂纳米颗粒进行超声分散并用pH调节剂调节pH到6-7，将固含量调节到0.5-5wt％，加入分散剂、润湿剂、防腐剂、选择比改性剂后，配制成应用于浅沟槽隔离的化学机械抛光的组合物。

11.如权利要求10所述的应用于浅沟槽隔离的化学机械抛光的组合物，其特征在于，选择比改性剂为椰油酰甘氨酸、月桂酸肌氨酸钠、椰油酰丙氨酸钠、椰油酰两性基二乙酸二钠中的一种。