[发明专利]掩模板图层的检测方法、检测装置、检测设备及存储介质

权利要求书

1.一种掩模板图层的检测方法，其特征在于，包括：

获取至少一掩模板图层；

将所述至少一掩模板图层划分为一第一区域以及一第二区域，其中所述第一区域为非检测区，所述第二区域为检测区，且所述第二区域为异形区域；

将所述第二区域划分为多个呈阵列排布的区块；

将所述区块中的一第一区块与至少一第二区块进行比对，得到一比对结果；

根据所述比对结果判断所述掩模板图层的缺陷类型；

其中，所述第一区域具有一第一背景色，所述第二区域具有一第二背景色，所述第一背景色与所述第二背景色不同。

2.如权利要求1所述的检测方法，其特征在于，所述第一背景色包括黑色，第二背景色包括灰色。

3.如权利要求1所述的检测方法，其特征在于，采用八邻域比对法对所述第一区块与所述至少一第二区块进行比对。

4.如权利要求3所述的检测方法，其特征在于，采用所述八邻域比对法检测所述第一区块时，先确定出所述第一区块的八个参考区块，若所述八个参考区块中部分参考区块位于所述第一区域，则此部分参考区块不参与比对。

5.如权利要求1所述的检测方法，其特征在于，所述缺陷类型包括图层增加或者图层缺失。

6.如权利要求5所述的检测方法，其特征在于，将所述第一区块与所述至少一第二区块进行比对时，若判断所述第一区块或某一所述第二区块存在缺陷，则进一步确认所述缺陷是否与所述第二背景色的颜色相同，若相同，则判断所述缺陷类型为图层缺失。

7.一种掩模板图层的检测装置，其特征在于，包括：

图层获取单元，用于获取至少一掩模板图层；

区域划分单元，用于将所述至少一掩模板图层划分为一第一区域以及一第二区域，并将所述第二区域划分为多个呈阵列排布的区块，其中所述第一区域为非检测区，所述第二区域为检测区，且所述第二区域为异形区域；

比对单元，用于将所述区块中的一第一区块与至少一第二区块进行比对，得到一比对结果；

判断单元，用于根据所述比对结果判断所述掩模板图层的缺陷类型；

其中，所述第一区域具有一第一背景色，所述第二区域具有一第二背景色，所述第一背景色与所述第二背景色不同。

8.如权利要求7所述的检测装置，其特征在于，所述第一背景色包括黑色，第二背景色包括灰色。

9.如权利要求7所述的检测装置，其特征在于，所述比对单元采用八邻域比对法对所述第一区块与所述至少一第二区块进行比对。

10.如权利要求9所述的检测装置，其特征在于，所述比对单元采用所述八邻域比对法检测所述第一区块时，先确定出所述第一区块的八个参考区块，若所述八个参考区块中部分参考区块位于所述第一区域，则此部分参考区块不参与比对。

11.如权利要求7所述的检测装置，其特征在于，所述缺陷类型包括图层增加或者图层缺失。

12.如权利要求11所述的检测装置，其特征在于，若所述判断单元根据所述比对结果判断所述第一区块或某一所述第二区块存在缺陷，则进一步确认所述缺陷是否与所述第二背景色的颜色相同，若相同，则判断所述缺陷类型为图层缺失。

13.一种检测设备，其特征在于：

包括至少一个如权利要求7-12所述的任意一种检测装置。

14.一种存储介质，用于存储计算机程序，其特征在于：

所述计算机程序用于执行如权利要求1-6所述的任意一种检测方法。