[发明专利]超宽截止带50nm宽带通矩形波带通滤光膜设计方法

权利要求书

1.一种超宽截止带50nm宽带通矩形波带通滤光膜的设计方法，其特征在于，包括以下过程：

步骤一：确定A面宽带通矩形波带通滤光膜膜系

A面宽带通矩形波带通滤光膜在通带两侧包含截止带，且其中心波长、通带宽度、通带透射率、矩形度均满足最终形成滤光膜整体膜系要求的中心波长、通带宽度、通带透射率及矩形度；

步骤二：确定B面超宽截止带长波截止膜膜系

B面超宽截止带长波截止膜的透射带和A面宽带通矩形波带通滤光膜的通带相同，其截止带为除A面宽带通矩形波带通滤光膜的截止带外400nm～1100nm全波段截止；

步骤三：将上述A、B面膜系分别形成于基底的两侧，并使用TFCale软件计算整体膜系透过率。

2.如权利要求1所述的超宽截止带50nm宽带通矩形波带通滤光膜的设计方法，其特征在于，所述基底为双面抛光的H-K9L或其他在400nm～1100nm具有高透射率的无色平面玻璃基板。

3.如权利要求2所述的超宽截止带50nm宽带通矩形波带通滤光膜的设计方法，其特征在于，A面膜系中，将不同波长的多腔F-P型窄带滤光膜错峰连接做为基础膜系，并优化各层厚度提高通带透过率，增大截止带的权重以保证矩形度。

4.如权利要求3所述的超宽截止带50nm宽带通矩形波带通滤光膜的设计方法，其特征在于，A面膜系设计时，将中心波长λ₀₁＝505nm和λ₀₂＝515nm的两个双腔窄带滤光膜连接，即基础膜系为Glass|(0.98H0.98L)^³1.96H(0.98L0.98H)^³L(1.02H1.02L)^³2.04H(1.02L1.02H)^³|Air，Ti₂O₃薄膜材料为高折射率材料、SiO₂薄膜材料为低折射率材料。

5.如权利要求4所述的超宽截止带50nm宽带通矩形波带通滤光膜的设计方法，其特征在于，B面膜系中，选用不同波长非等候周期性膜堆拼接作为基础膜系，并加大两端截止带的权重进行优化，以满足截止带的吸光度。

6.如权利要求5所述的超宽截止带50nm宽带通矩形波带通滤光膜的设计方法，其特征在于，B面膜系设计时，选定中心波长为λ＝400nm，将不同中心波长非等厚周期性膜堆连接，基础膜系为：Glass|(HL)^¹²1.4(0.8HL)^¹⁰1.6(0.8HL)^¹⁰|Air，Ti₂O₃薄膜材料为高折射率材料、SiO₂薄膜材料为低折射率材料。

7.如权利要求6所述的超宽截止带50nm宽带通矩形波带通滤光膜的设计方法，其特征在于，A面膜系和B面膜系在基底上制备形成时，采用电子束热蒸发沉积技术，使用石英晶控法监控膜层厚度。

8.如权利要求7所述的超宽截止带50nm宽带通矩形波带通滤光膜的设计方法，其特征在于，A面膜系和B面膜系的透射率光谱拼接后，满足超宽截止带50nm宽带通矩形波带通滤光膜的光谱要求。

9.如权利要求8所述的超宽截止带50nm宽带通矩形波带通滤光膜的设计方法，其特征在于，A面膜系和B面膜系的透射率光谱拼接后，在400nm～1100nm波段，中心波长λ0＝515nm，通带宽度Δλ＝λ0±25nm＝50nm，通带平均透过率τ—＞95％，截止带λ≠λ0±40nm，在400nm～575nm、555nm～1100nm的截止带透过率τ_cmax＜0.1％，吸光度OD＞3，膜层透过率矩形度0.82，上行陡度S_上行＝0.97％，下行陡度S _下行＝1.17％。

10.一种基于权利要求1-9中任一项所述的超宽截止带50nm宽带通矩形波带通滤光膜的设计方法在光学薄膜技术领域中的应用。